微细光刻技术

专利号：CN86101809

公布日：1987-10-07

申请人：成都电讯工程学院

光刻技术方法

专利号：CN200680032459.3

公布日：2008-09-03

申请人：NXP股份有限公司

光刻技术方法

专利号：CN200680032449.X

公布日：2008-09-03

申请人：NXP股份有限公司

低成本光刻技术

专利号：CN03108107.X

公布日：2003-10-01

申请人：张国飙

光刻技术显影成分及用于光刻技术图案化的方法

专利号：CN201510860952.5

公布日：2018-11-02

申请人：台湾积体电路制造股份有限公司

体积式微光刻技术

专利号：CN202080094196.9

公布日：2022-08-30

申请人：光合有限责任公司

去除光刻膜的技术

专利号：CN200510030309.6

公布日：2007-04-04

申请人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司

流体压力刻印光刻技术

专利号：CN01812944.7

公布日：2003-11-19

申请人：纳诺尼克斯公司

原子层沉积光刻技术

专利号：CN201380009300.X

公布日：2014-10-22

申请人：应用材料公司

光刻技术用防尘薄膜组件

专利号：CN201310726595.4

公布日：2018-03-27

申请人：信越化学工业株式会社

浸润式光刻技术的方法

专利号：CN200610075346.3

公布日：2007-10-17

申请人：联华电子股份有限公司

双重图案化光刻技术

专利号：CN201180076082.2

公布日：2014-09-03

申请人：英特尔公司

用于光刻技术的检查方法

专利号：CN201080020718.7

公布日：2012-04-18

申请人：ASML荷兰有限公司

用于图形化不同宽度的线的复合光学光刻方法

专利号：CN200480038478.8

公布日：2007-01-17

申请人：英特尔公司

半导体工艺中光刻机台的控制方法及装置

专利号：CN200910090371.2

公布日：2010-01-06

申请人：北大方正集团有限公司;深圳方正微电子有限公司