检查光掩模的方法与系统、计算机可读取的存储介质

专利号：CN200810080528.9

公布日：2008-09-03

申请人：台湾积体电路制造股份有限公司

光掩模管理方法及其条形码辨识装置

专利号：CN200410092208.7

公布日：2006-05-10

申请人：力晶半导体股份有限公司

光掩模微尘清除器及光掩模微尘清除程序

专利号：CN200410031738.0

公布日：2005-09-28

申请人：力晶半导体股份有限公司

在半导体器件上提供一致临界尺寸的光掩模及其制造方法

专利号：CN200610092790.6

公布日：2007-04-04

申请人：三星电子株式会社

光掩模载台单元和包括该光掩模载台单元的光掩模储料器

专利号：CN202211691491.X

公布日：2023-06-30

申请人：细美事有限公司

光掩模版及其制作方法、图形化的方法

专利号：CN200710094458.8

公布日：2009-06-17

申请人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司

光掩模保护膜的安装方法和光掩模保护膜框架

专利号：CN201010182757.9

公布日：2011-11-23

申请人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司

光掩模的设计方法与半导体光刻制作工艺

专利号：CN201910110925.4

公布日：2023-04-07

申请人：力晶积成电子制造股份有限公司

光掩模衬底容器单元、光掩模衬底运输及曝光方法

专利号：CN200710008399.8

公布日：2007-08-08

申请人：HOYA株式会社

光掩模、包括光掩模的层压体、光掩模制备方法、图案形成装置和图案形成方法

专利号：CN201680033745.5

公布日：2020-12-15

申请人：株式会社LG化学

一种光掩模组件及光刻系统

专利号：CN202010863609.7

公布日：2020-11-10

申请人：泉芯集成电路制造（济南）有限公司

光掩模传送支撑座及光掩模传送方法

专利号：CN03110166.6

公布日：2004-10-20

申请人：力晶半导体股份有限公司

用于光掩模的薄膜以及包括该薄膜的曝光装置

专利号：CN201710377476.0

公布日：2018-01-09

申请人：三星电子株式会社

用于制造光掩模的系统、方法和程序产品

专利号：CN202180047279.7

公布日：2023-05-23

申请人：美商福昌公司

便捷测量光掩模上光罩护膜蒙贴位移量的方法及光掩模

专利号：CN202211623777.4

公布日：2023-05-02

申请人：广州新锐光掩模科技有限公司