抗光性测试光源

专利号：CN201821991849.X

公布日：2019-07-16

申请人：中检集团南方测试股份有限公司

掩模组件的制造方法

专利号：CN201810089595.0

公布日：2021-12-03

申请人：三星显示有限公司

光致抗蚀膜和使用该光致抗蚀膜的有机发光显示装置的制造方法

专利号：CN201210576915.8

公布日：2018-03-20

申请人：乐金显示有限公司

有选择地覆盖微机加工表面的方法

专利号：CN03824005.X

公布日：2005-10-26

申请人：好利获得I－JET股份公司

正性光致抗蚀剂以及结构体的制造方法

专利号：CN200480033386.0

公布日：2006-12-13

申请人：积水化学工业株式会社

光致抗蚀剂树脂组合物

专利号：CN200510071268.5

公布日：2005-11-09

申请人：东进世美肯株式会社

制作具有底切侧壁的抗蚀剂结构的方法

专利号：CN201480044078.1

公布日：2019-12-10

申请人：AMS有限公司

用于制造抗蚀图案和导体图案的方法

专利号：CN200580040726.7

公布日：2007-10-31

申请人：东京应化工业株式会社

通过曝光工艺在晶片上制造图案的方法

专利号：CN200910252946.6

公布日：2010-11-03

申请人：海力士半导体有限公司

包含双键的交联剂单体及含有此单体的光致抗蚀剂共聚物

专利号：CN00123479.X

公布日：2001-02-28

申请人：现代电子产业株式会社

负性光致抗蚀剂组合物

专利号：CN200480012725.7

公布日：2006-06-14

申请人：东京应化工业株式会社

用于制造抗蚀图案和导体图案的方法

专利号：CN200580040710.6

公布日：2007-10-31

申请人：东京应化工业株式会社

耐蚀刻性优秀的I线用负性光致抗蚀剂组合物

专利号：CN201680050482.9

公布日：2020-12-15

申请人：荣昌化学制品株式会社

用于形成半导体图案的KrF激光用负性光致抗蚀剂组合物

专利号：CN201680043047.3

公布日：2021-04-02

申请人：荣昌化学制品株式会社

光致抗蚀剂聚合物及包含其的光致抗蚀剂组合物

专利号：CN200410069633.4

公布日：2005-04-13

申请人：海力士半导体有限公司