一种化学机械抛光保持环和化学机械抛光承载头

专利号：CN202022073530.2

公布日：2021-08-03

申请人：江门市蓬江区泰德利机械设备有限公司

用来对基板进行化学机械抛光的方法

专利号：CN201010184693.6

公布日：2010-11-03

申请人：罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司

化学机械抛光方法

专利号：CN201110265339.0

公布日：2012-01-18

申请人：清华大学

化学机械抛光方法

专利号：CN201110264347.3

公布日：2011-12-28

申请人：清华大学

化学机械抛光设备

专利号：CN201110143089.3

公布日：2011-10-12

申请人：清华大学

稳定的、可浓缩的化学机械抛光组合物和抛光基材的方法

专利号：CN201110354333.0

公布日：2012-07-11

申请人：罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司

抛光半导体衬底的方法

专利号：CN201610087216.5

公布日：2019-05-28

申请人：罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司

利用化学机械抛光设备进行化学机械抛光的方法

专利号：CN201110143287.X

公布日：2011-11-16

申请人：清华大学

一种钼靶材溅射面的抛光工艺

专利号：CN202010819723.X

公布日：2020-11-24

申请人：合肥江丰电子材料有限公司

一种钕铝靶材溅射面的抛光工艺

专利号：CN202010819721.0

公布日：2020-11-20

申请人：合肥江丰电子材料有限公司

化学机械抛光方法

专利号：CN201110177218.0

公布日：2011-11-02

申请人：清华大学

化学机械抛光方法

专利号：CN201110288857.4

公布日：2012-01-25

申请人：清华大学

一种化学机械抛光液

专利号：CN201710577413.X

公布日：2017-10-24

申请人：浙江晶圣美纳米科技有限公司

一种离子掺杂钆镓石榴石晶片的加工方法

专利号：CN202111359070.2

公布日：2022-02-25

申请人：山东大学;安徽科瑞思创晶体材料有限责任公司

化学机械抛光方法

专利号：CN201110265344.1

公布日：2011-12-28

申请人：清华大学