磁记录再现装置

专利号：CN202110817473.0

公布日：2022-04-08

申请人：株式会社东芝;东芝电子元件及存储装置株式会社

磁记录介质、磁存储器和从磁记录介质中再生信息的方法

专利号：CN200610143518.6

公布日：2008-01-23

申请人：富士通株式会社

磁记录介质的评价方法和制造方法

专利号：CN200980118008.5

公布日：2011-04-27

申请人：昭和电工株式会社

垂直磁记录介质和磁记录再生装置

专利号：CN200880110178.4

公布日：2010-08-25

申请人：昭和电工株式会社

磁记录介质及其制造方法

专利号：CN201010556737.3

公布日：2011-06-08

申请人：日立环球储存科技荷兰有限公司

磁记录介质、其制造方法及磁记录再现装置

专利号：CN202110017534.5

公布日：2022-02-22

申请人：株式会社东芝;东芝电子元件及存储装置株式会社

盘装置

专利号：CN200580031743.4

公布日：2007-08-22

申请人：松下电器产业株式会社

磁记录方法及其装置、及确定磁记录介质的抗磁力的设备

专利号：CN03154303.0

公布日：2004-03-17

申请人：欧姆龙株式会社

磁数据擦除装置

专利号：CN201010291500.7

公布日：2011-11-16

申请人：爱德万斯设计株式会社

磁记录和再现装置

专利号：CN200510089411.3

公布日：2006-03-15

申请人：株式会社东芝

垂直磁记录介质和磁记录再生装置

专利号：CN200880109319.0

公布日：2010-08-18

申请人：昭和电工株式会社

垂直磁记录介质和使用该介质的磁记录/再现装置

专利号：CN200810169713.5

公布日：2009-06-24

申请人：株式会社东芝

磁记录介质的检查方法、磁记录介质以及磁记录再生装置

专利号：CN201080012020.0

公布日：2012-02-15

申请人：昭和电工株式会社

磁记录介质用玻璃基板、及使用了该磁记录介质用玻璃基板的磁记录介质

专利号：CN201210385806.8

公布日：2013-04-17

申请人：旭硝子株式会社

制造用于磁记录介质的玻璃基底的方法、由该方法获得的用于磁记录介质的玻璃基底、和使用该基底获得的磁记录介质

专利号：CN200580029014.5

公布日：2009-03-11

申请人：昭和电工株式会社