一种氧化镓晶片CMP后的清洗方法

专利号：CN202010997736.6

公布日：2022-04-05

申请人：北京铭镓半导体有限公司

一种用于石墨极板的清洗装置

专利号：CN201921232187.2

公布日：2020-04-10

申请人：河南豫氢动力有限公司

一种蓝宝石加工最终清洗工艺

专利号：CN201310014012.5

公布日：2013-05-22

申请人：安徽康蓝光电股份有限公司

具有颗粒监测功能的去离子水清洗设备

专利号：CN202023058996.1

公布日：2021-10-22

申请人：苏州恩腾半导体科技有限公司

微纳米离子高频清洗设备

专利号：CN202022672331.3

公布日：2021-07-13

申请人：江浩

湿法清洗设备

专利号：CN202120138079.X

公布日：2021-08-31

申请人：苏州恩腾半导体科技有限公司

研磨垫清洗用高压去离子水喷射装置及化学机械研磨设备

专利号：CN201210191268.9

公布日：2012-09-26

申请人：上海宏力半导体制造有限公司

晶片清洗设备

专利号：CN201020541339.X

公布日：2011-08-31

申请人：王敬;江西旭阳雷迪高科技股份有限公司

用于检测半导体制程中去离子水清洗阀异常的装置

专利号：CN201410021713.6

公布日：2015-07-22

申请人：上海华虹宏力半导体制造有限公司

一种实现电子封装外壳局部镀金的方法

专利号：CN201911383385.3

公布日：2020-06-12

申请人：中电国基南方集团有限公司

清洗设备

专利号：CN202210420811.1

公布日：2022-08-05

申请人：陈嘉朗

清洗设备

专利号：CN202210935665.6

公布日：2022-12-30

申请人：陈嘉朗

纳米微气泡制造和清洗系统

专利号：CN201910114882.7

公布日：2020-08-21

申请人：英属开曼群岛商纳诺股份有限公司

带酸性储罐并用酸性离子水循环清洗系统的离子水生成器

专利号：CN200510013258.6

公布日：2005-10-26

申请人：李小鲁

晶圆清洗装置

专利号：CN201320095411.4

公布日：2013-08-14

申请人：中芯国际集成电路制造（北京）有限公司