等离子体处理

专利号：CN02108712.1

公布日：2002-11-13

申请人：株式会社东芝

等离子体处理设备和方法

专利号：CN201880084092.2

公布日：2023-10-20

申请人：玛特森技术公司;北京屹唐半导体科技股份有限公司

等离子体处理装置和等离子体处理方法

专利号：CN200480014926.0

公布日：2006-07-05

申请人：东京毅力科创株式会社

等离子体处理装置和等离子体处理方法

专利号：CN201910437815.9

公布日：2023-05-26

申请人：东京毅力科创株式会社

等离子体处理系统中的等离子体限制结构

专利号：CN200980150203.6

公布日：2011-11-16

申请人：朗姆研究公司

具有直接出口环状等离子体源的等离子体处理系统

专利号：CN201580066116.8

公布日：2020-07-31

申请人：应用材料公司

等离子体水处理方法及其装置

专利号：CN200810020181.9

公布日：2008-09-03

申请人：汪峰

等离子体处理方法及后处理方法

专利号：CN200510077064.2

公布日：2006-02-15

申请人：东京毅力科创株式会社

等离子体处理装置的清理方法和等离子体处理方法

专利号：CN201210181932.1

公布日：2012-10-17

申请人：东京毅力科创株式会社

具有耐腐蚀部件的等离子体处理装置

专利号：CN201210560158.5

公布日：2013-06-26

申请人：朗姆研究公司

等离子体观测系统和等离子体观测方法

专利号：CN202110054765.3

公布日：2021-07-23

申请人：东京毅力科创株式会社

等离子体处理装置

专利号：CN200610058370.6

公布日：2006-09-27

申请人：东京毅力科创株式会社

用于膨胀热等离子体的电感耦合的系统和方法

专利号：CN200480015891.2

公布日：2006-07-12

申请人：通用电气公司

一种等离子体产生方法和处理方法

专利号：CN202310037306.3

公布日：2023-09-01

申请人：江苏微导纳米科技股份有限公司

等离子体处理装置及用于运行等离子体处理装置的方法

专利号：CN201780063133.5

公布日：2020-10-30

申请人：迈尔博尔格(德国)有限公司