光致抗蚀剂涂布液供给装置以及使用该光致抗蚀剂涂布液供给装置的光致抗蚀剂涂布液供给方法和光致抗蚀剂涂布装置

专利号：CN200580040035.7

公布日：2007-10-24

申请人：AZ电子材料（日本）株式会社

用于制备光致抗蚀剂图案的方法

专利号：CN201010623056.4

公布日：2011-07-13

申请人：住友化学株式会社

用于制备光致抗蚀剂图案的方法

专利号：CN201010517468.X

公布日：2011-05-04

申请人：住友化学株式会社

光致抗蚀剂成分浓度测定装置及浓度测定方法

专利号：CN201680079908.3

公布日：2022-06-21

申请人：松下知识产权经营株式会社

使用了两层型防反射膜的光致抗蚀剂图形的形成方法

专利号：CN200580040348.2

公布日：2007-10-31

申请人：日产化学工业株式会社

光致抗蚀剂剥离液组合物以及光致抗蚀剂的剥离方法

专利号：CN200610054750.2

公布日：2006-09-13

申请人：关东化学株式会社

用于数字材料沉积到半导体晶片上的方法及设备

专利号：CN202080086261.3

公布日：2022-07-22

申请人：德州仪器公司

基底处理装置和方法

专利号：CN201210421238.2

公布日：2013-02-27

申请人：细美事有限公司

制造可拉伸导线的方法和制造可拉伸集成电路的方法

专利号：CN201610644461.1

公布日：2018-11-06

申请人：韩国电子通信研究院

光致抗蚀剂用剥离液以及使用该剥离液的基板处理方法

专利号：CN200710112536.2

公布日：2007-12-26

申请人：东京应化工业株式会社

电致发光元件的制造方法

专利号：CN200610073237.8

公布日：2006-11-01

申请人：大日本印刷株式会社

等离子体活化的液体

专利号：CN202180084222.4

公布日：2023-09-12

申请人：伊利诺伊大学评议会

一种光致抗蚀剂剥离液及其制备方法与应用

专利号：CN202310390143.7

公布日：2023-07-14

申请人：上海盛剑微电子有限公司

形成图形的方法和在其中使用的处理剂

专利号：CN01818879.6

公布日：2004-02-11

申请人：克拉瑞特国际有限公司

高反差正性光致抗蚀剂显影的方法

专利号：CN85107347

公布日：1986-08-20

申请人：阿兰特公司