用于制备光致抗蚀剂图案的方法

专利号：CN201010517468.X

公布日：2011-05-04

申请人：住友化学株式会社

使用双重图案化的光致抗蚀剂图像成形方法

专利号：CN200980111624.8

公布日：2011-02-23

申请人：AZ电子材料美国公司

光致抗蚀剂用树脂、光致抗蚀剂用树脂的制造方法、光致抗蚀剂用树脂组合物、以及图案形成方法

专利号：CN201980020276.7

公布日：2020-11-10

申请人：株式会社大赛璐

包括图案硬化步骤的用于缩小光致抗蚀剂图案之间的尺寸的工艺

专利号：CN200980111594.0

公布日：2011-02-23

申请人：AZ电子材料美国公司

用于制备光致抗蚀剂图案的方法

专利号：CN201010623056.4

公布日：2011-07-13

申请人：住友化学株式会社

光致抗蚀剂用溶剂以及采用它的狭缝涂敷用光致抗蚀剂组合物

专利号：CN200710146009.3

公布日：2008-03-19

申请人：AZ电子材料（日本）株式会社

使用了两层型防反射膜的光致抗蚀剂图形的形成方法

专利号：CN200580040348.2

公布日：2007-10-31

申请人：日产化学工业株式会社

改进工艺窗口制作全自对准薄膜场效应晶体管的方法

专利号：CN01119377.8

公布日：2001-12-19

申请人：国际商业机器公司

极性弹性体微结构及其制造方法

专利号：CN201780078835.0

公布日：2019-10-29

申请人：康宁股份有限公司

光致抗蚀剂底层组合物及图案化方法

专利号：CN202111444330.6

公布日：2022-06-21

申请人：罗门哈斯电子材料有限责任公司

沉积用掩模的制造方法

专利号：CN201610227809.7

公布日：2020-07-28

申请人：三星显示有限公司

图形形成法

专利号：CN96108243.7

公布日：2004-04-28

申请人：三星航空产业株式会社

使涂在抗反射涂层上的光致抗蚀剂成像的方法

专利号：CN200880121715.5

公布日：2010-12-01

申请人：AZ电子材料美国公司

具有多个抗反射涂层的光致抗蚀剂的成像方法

专利号：CN200680008827.0

公布日：2008-03-12

申请人：AZ电子材料美国公司

使用化学辅助回流来减小光致抗蚀剂的线缘粗糙度

专利号：CN200480035077.7

公布日：2006-12-27

申请人：英特尔公司