一种激光微造型掩膜及利用掩膜的激光微造型方法

专利号：CN201310013112.6

公布日：2013-05-01

申请人：温州大学;江苏大学;成都工具研究所有限公司

一种激光微造型掩膜

专利号：CN201320060546.7

公布日：2013-08-21

申请人：江苏大学

曝光装置

专利号：CN201510294077.9

公布日：2017-03-01

申请人：京东方科技集团股份有限公司

一种消除碳化硅器件终端刻蚀中微掩膜的方法

专利号：CN201610743365.2

公布日：2016-11-16

申请人：株洲中车时代电气股份有限公司

微凸透镜阵列结构的加工方法

专利号：CN202011016553.8

公布日：2022-05-27

申请人：北京北方华创微电子装备有限公司

掩膜版传送盒以及降低掩膜版污染的方法

专利号：CN201210343549.1

公布日：2013-01-09

申请人：上海华力微电子有限公司

量子点单光子源微柱腔的制备方法及单光子源样片

专利号：CN202211459682.3

公布日：2023-04-04

申请人：北京量子信息科学研究院

一种刻蚀工艺

专利号：CN201710327662.3

公布日：2021-06-08

申请人：北京北方华创微电子装备有限公司

掩膜图案校正方法、半导体装置制造方法和半导体装置

专利号：CN200810174972.7

公布日：2009-05-13

申请人：夏普株式会社

一种陷光结构的制备方法及陷光结构

专利号：CN202211315164.4

公布日：2022-11-22

申请人：季华实验室

用于元成像的CIS系统

专利号：CN202210602153.8

公布日：2022-10-14

申请人：元潼（北京）技术有限公司

一种掩膜板及其制作方法

专利号：CN201810833914.4

公布日：2018-11-13

申请人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司

一种聚酰亚胺微掩膜的制作方法

专利号：CN201810093679.1

公布日：2019-08-06

申请人：苏州锐材半导体有限公司

一种LED芯片或衬底表面粗化用掩膜液及其制备方法与应用

专利号：CN201210085092.9

公布日：2013-10-23

申请人：山东浪潮华光光电子股份有限公司

一种激光退火装置、阵列基板、显示装置及制作方法

专利号：CN201910026990.9

公布日：2022-04-12

申请人：京东方科技集团股份有限公司