方酸内鎓盐有机电致发光材料及其制备方法

专利号：CN200510021878.4

公布日：2006-04-19

申请人：电子科技大学

色调修正剂、方酸内鎓盐化合物及滤光器

专利号：CN201080044656.3

公布日：2012-07-11

申请人：株式会社艾迪科

核-壳化合物、树脂组合物及其层、滤光片及图像传感器

专利号：CN202111578361.0

公布日：2022-07-01

申请人：三星SDI株式会社

用于显示装置的方酸内鎓盐化合物

专利号：CN201880087627.1

公布日：2022-08-23

申请人：日东电工株式会社

成像材料

专利号：CN200810185875.8

公布日：2009-09-09

申请人：富士施乐株式会社

包括锚定基团的方酸*染料

专利号：CN200880112884.2

公布日：2010-09-15

申请人：索尼株式会社

一种吡啶鎓离子修饰的近红外方酸染料及其制备与应用

专利号：CN201910190064.5

公布日：2020-03-10

申请人：福州大学

着色固化性树脂组合物

专利号：CN202210085296.6

公布日：2022-07-29

申请人：住友化学株式会社;东友精细化工有限公司;住华科技股份有限公司

一种高附着力的阻焊涂层及其制备工艺

专利号：CN202310325871.X

公布日：2023-06-09

申请人：江苏海田电子材料有限公司

喷墨油墨组合物和使用喷墨油墨组合物制成的印刷品

专利号：CN200510053893.7

公布日：2006-02-01

申请人：东芝泰格有限公司

一种ArF光源干法光刻用多鎓盐型光产酸剂的应用

专利号：CN202110979409.2

公布日：2021-12-21

申请人：上海新阳半导体材料股份有限公司;上海芯刻微材料技术有限责任公司

一种ArF光源干法光刻用多鎓盐型光产酸剂

专利号：CN202110979286.2

公布日：2022-09-27

申请人：上海新阳半导体材料股份有限公司;上海芯刻微材料技术有限责任公司

可聚合型含双鎓盐结构的光致产酸剂、制备方法及光刻胶

专利号：CN202011530148.8

公布日：2023-01-17

申请人：宁波南大光电材料有限公司

采用自由基介导固化的有机硅弹性体

专利号：CN202080069991.2

公布日：2022-05-13

申请人：3M创新有限公司

组合物、膜、近红外线截止滤波器、图案形成方法、层叠体、固体摄像元件、图像显示装置、相机模块及红外线传感器

专利号：CN201780052541.0

公布日：2019-04-16

申请人：富士胶片株式会社