残留气体清除方法

专利号：CN200380111028.2

公布日：2007-02-07

申请人：亚洲环球运输服务有限公司

制氢装置

专利号：CN201110354140.5

公布日：2012-07-04

申请人：住友精化株式会社

残留气体分析仪

专利号：CN200780009949.6

公布日：2009-04-08

申请人：株式会社堀场STEC

一种腔体残留物清除装置

专利号：CN201510021314.4

公布日：2015-05-20

申请人：杭州大和热磁电子有限公司

一种腔体残留物清除装置

专利号：CN201520029273.9

公布日：2015-08-26

申请人：杭州大和热磁电子有限公司

残留气体去除设备和方法

专利号：CN202010342136.6

公布日：2020-08-11

申请人：华虹半导体（无锡）有限公司

前清除残留聚合物的方法

专利号：CN02156384.5

公布日：2004-01-21

申请人：联华电子股份有限公司

臭氧辅氯消毒装置

专利号：CN201920722607.9

公布日：2020-04-17

申请人：杭州优尔浦环境工程有限公司

蒸发燃料处理装置

专利号：CN201911151103.7

公布日：2021-11-30

申请人：爱三工业株式会社

HVPE反应器装置

专利号：CN200880120364.6

公布日：2010-11-24

申请人：奥普特冈有限公司

一种聚合物粘稠液体中残留单体的分离系统及分离方法

专利号：CN201410517067.2

公布日：2017-01-25

申请人：周建明

半导体器件的制造方法

专利号：CN202211128867.6

公布日：2022-11-11

申请人：上海华力集成电路制造有限公司

一种晶圆移送装置及半导体生产线

专利号：CN202020427083.3

公布日：2020-08-25

申请人：合肥欣奕华智能机器有限公司

一种等离子体刻蚀方法

专利号：CN201910420237.8

公布日：2019-09-06

申请人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司

成膜方法和成膜装置

专利号：CN202211647658.2

公布日：2023-06-30

申请人：东京毅力科创株式会社