IP核检测版图、版图设计系统及版图设计方法

专利号：CN201210396347.3

公布日：2018-07-31

申请人：上海华虹宏力半导体制造有限公司

版图设计方法以及版图设计单元集合

专利号：CN201510005136.6

公布日：2019-02-12

申请人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司

一种版图设计方法和版图设计系统

专利号：CN201410276868.4

公布日：2019-01-22

申请人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司

一种版图设计方法和装置

专利号：CN200810057543.1

公布日：2009-08-05

申请人：北京芯慧同用微电子技术有限责任公司

光学邻近修正方法、系统、电子设备及存储介质

专利号：CN202211481980.2

公布日：2023-03-21

申请人：珠海市睿晶聚源科技有限公司

一种多人合作的顶层版图布线方法

专利号：CN202310823164.3

公布日：2023-10-10

申请人：中国电子科技集团公司第五十八研究所

版图的设计方法、设计设备以及计算机可读存储介质

专利号：CN202211123599.9

公布日：2022-12-02

申请人：长鑫存储技术有限公司

版图中光刻坏点的检测修复方法、系统及计算机介质

专利号：CN202310030409.7

公布日：2023-05-05

申请人：华芯巨数（杭州）微电子有限公司

一种集成电路版图设计教学辅助系统

专利号：CN202211028641.9

公布日：2022-11-25

申请人：安徽大学

一种设计版图缺陷修复方法、存储介质及设备

专利号：CN202210090007.1

公布日：2022-05-31

申请人：深圳晶源信息技术有限公司

产生标准单元库版图的方法

专利号：CN202110571843.7

公布日：2021-07-23

申请人：杨家奇

一种埋入式电感版图的优化设计方法

专利号：CN201410194599.7

公布日：2017-03-15

申请人：中国电子科技集团公司第三十八研究所

芯片版图设计方法

专利号：CN201510853934.4

公布日：2018-06-19

申请人：上海华虹宏力半导体制造有限公司

芯片版图设计规则检查方法

专利号：CN201910061589.9

公布日：2019-06-14

申请人：上海华虹宏力半导体制造有限公司

集成专业版图设计经验的集成电路(IC)版图迁移的方法和系统

专利号：CN202080000147.4

公布日：2023-08-04

申请人：香港应用科技研究院有限公司