等离子处理

专利号：CN202080044864.7

公布日：2022-02-15

申请人：英国拉夫堡大学

等离子体处理设备和方法

专利号：CN201880084092.2

公布日：2023-10-20

申请人：玛特森技术公司;北京屹唐半导体科技股份有限公司

等离子体处理装置和等离子体处理方法

专利号：CN200480014926.0

公布日：2006-07-05

申请人：东京毅力科创株式会社

等离子体处理装置和等离子体处理方法

专利号：CN201910437815.9

公布日：2023-05-26

申请人：东京毅力科创株式会社

等离子体水处理方法及其装置

专利号：CN200810020181.9

公布日：2008-09-03

申请人：汪峰

等离子体处理方法及后处理方法

专利号：CN200510077064.2

公布日：2006-02-15

申请人：东京毅力科创株式会社

具有直接出口环状等离子体源的等离子体处理系统

专利号：CN201580066116.8

公布日：2020-07-31

申请人：应用材料公司

等离子体处理装置的清理方法和等离子体处理方法

专利号：CN201210181932.1

公布日：2012-10-17

申请人：东京毅力科创株式会社

等离子体处理系统中的等离子体限制结构

专利号：CN200980150203.6

公布日：2011-11-16

申请人：朗姆研究公司

粉末等离子处理装置

专利号：CN201380032767.6

公布日：2016-08-17

申请人：韩国基础科学支援研究院

具有耐腐蚀部件的等离子体处理装置

专利号：CN201210560158.5

公布日：2013-06-26

申请人：朗姆研究公司

等离子处理装置及其清洗方法

专利号：CN200410058831.0

公布日：2005-02-23

申请人：夏普株式会社

等离子处理装置以及等离子处理方法

专利号：CN202080004147.1

公布日：2021-10-12

申请人：株式会社日立高新技术

等离子体氮化处理中的腔室内的前处理方法、等离子体处理方法、和等离子体处理装置

专利号：CN200880017976.2

公布日：2010-03-24

申请人：东京毅力科创株式会社

等离子体观测系统和等离子体观测方法

专利号：CN202110054765.3

公布日：2021-07-23

申请人：东京毅力科创株式会社