[发明专利]用于MRI装置的梯度屏蔽线圈在审
申请号: | 201980029302.2 | 申请日: | 2019-04-26 |
公开(公告)号: | CN112041696A | 公开(公告)日: | 2020-12-04 |
发明(设计)人: | J·A·奥弗韦格 | 申请(专利权)人: | 皇家飞利浦有限公司 |
主分类号: | G01R33/421 | 分类号: | G01R33/421 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 刘兆君 |
地址: | 荷兰艾*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 mri 装置 梯度 屏蔽 线圈 | ||
1.一种用于MRI装置(1)的梯度屏蔽线圈(5),所述梯度屏蔽线圈(5)包括围绕其纵轴(A)的绕组(6、7),其中,至少一个绕组(7)通过沿其圆周包括多个邻接的部分(8)而被布置为曲折绕组(7),其中,在这些部分(8)中的每个部分中以如下的方式提供一对导体回路(9、10):使得所述曲折绕组(7)中的电流将在所述两个导体回路(9、10)中以相反的方向流动。
2.根据权利要求1所述的梯度屏蔽线圈(5),其中,在每个部分(8)中,所述两个导体回路(9、10)在沿着所述曲折绕组(7)的所述圆周以相同的长度彼此相邻地布置。
3.根据权利要求1或2所述的梯度屏蔽线圈,其中,在每个部分(8)中,以如下的方式提供多对导体回路(9、10):使得所述曲折绕组(7)中的电流将在相应的对中的所述两个导体回路(9、10)中以相反的方向流动。
4.根据权利要求3所述的梯度屏蔽线圈(5),其中,在每个部分(8)中,所述导体回路(9、10)在沿着所述曲折绕组(7)的所述圆周以相同的长度彼此相邻地布置。
5.根据前述权利要求中的任一项所述的梯度屏蔽线圈(5),其中,具有导体回路(9、10)的所述对的所述部分(8)沿着所述曲折绕组(7)的所述圆周彼此以规则的间隔布置。
6.根据前述权利要求中的任一项所述的梯度屏蔽(5)线圈,其中,所述梯度屏蔽线圈(5)具有圆柱形状,所述圆柱形状具有两个开口端,并且所述至少一个曲折绕组(7)被布置在这些开口端中的一个上。
7.根据权利要求6所述的梯度屏蔽线圈,其中,在这些开口端部的两者处分别布置有至少一个曲折绕组(7)。
8.根据权利要求6或7所述的梯度屏蔽线圈,其中,至少两个曲折绕组(7)被布置在所述梯度屏蔽线圈中间区域。
9.根据前述权利要求中的任一项所述的梯度屏蔽线圈(5),其中,至少一个弯曲绕组(13)邻近曲折绕组(7)被提供,其中,所述弯曲绕组(13)不在所述梯度屏蔽线圈的圆柱表面上笔直延伸,但也不像所述曲折绕组(7)那样包含任何导体回路。
10.根据权利要求9所述的梯度屏蔽线圈,其中,所述弯曲绕组(13)邻近每个曲折绕组(7)布置。
11.一种MRI装置(1),其包括用于生成MRI装置(1)的主磁场的超导磁体(2)和用于生成叠加到所述主磁场的梯度磁场的至少一个梯度线圈(4),其中,所述梯度线圈(4)被所述超导磁体(2)包围,并且其中,由根据权利要求1至7中的任一项所述的梯度屏蔽线圈(5)使所述超导磁体(2)屏蔽于所述梯度磁场,所述梯度屏蔽线圈被布置在所述超导磁体(29)与所述梯度线圈(4)之间。
12.根据权利要求11所述的MRI装置,其中,所述梯度线圈(4)在所述梯度线圈(4)的平面中间附近包括鞍形绕组,并且所述至少一个曲折绕组(7)以如下的方式在所述梯度线圈(4)的平面中间附近的所述鞍形绕组上布置:使得所述超导磁体(2)被屏蔽于这些鞍形绕组。
13.一种通过在超导磁体(2)与MRI装置(1)的梯度线圈(4)之间布置梯度屏蔽线圈(5)来使所述超导磁体(2)被屏蔽于由所述梯度线圈(4)生成的梯度磁场的方法,所述梯度屏蔽线圈(5)包括绕其纵轴的绕组(6、7),其中,至少一个绕组(7)通过沿其圆周包括多个邻接的部分(8)而被布置为曲折绕组(7),其中,在这些部分(8)中的每个部分中以如下方式提供一对导体回路(9、10):使得所述弯曲绕组(7)中的电流在所述两个导体回路(9、10)中以相反的方向流动。
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