[发明专利]压电薄膜、压电薄膜元件及压电换能器在审

专利信息
申请号: 202210188165.0 申请日: 2022-02-28
公开(公告)号: CN115050888A 公开(公告)日: 2022-09-13
发明(设计)人: 森下纯平 申请(专利权)人: TDK株式会社
主分类号: H01L41/083 分类号: H01L41/083;H01L41/18;H01L41/187;H04R17/00;B06B1/06
代理公司: 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人: 杨琦
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 压电 薄膜 元件 换能器
【权利要求书】:

1.一种压电薄膜,其中,

是具备第一压电层、和直接重叠于所述第一压电层的第二压电层的压电薄膜,

所述第一压电层包含钙钛矿型氧化物的四方晶1,

所述第二压电层包含钙钛矿型氧化物的四方晶2,

所述四方晶1的(001)面在所述压电薄膜的表面的法线方向上取向,

所述四方晶2的(001)面在所述压电薄膜的表面的法线方向上取向,

所述四方晶1的(001)面的间隔为c1,

所述四方晶1的(100)面的间隔为a1,

所述四方晶2的(001)面的间隔为c2,

所述四方晶2的(100)面的间隔为a2,

c2/a2大于c1/a1,

c1/a1为1.015以上且1.050以下。

2.根据权利要求1所述的压电薄膜,其中,

c2/a2为1.051以上且1.250以下。

3.根据权利要求1或2所述的压电薄膜,其中,

所述四方晶1的(001)面的衍射X射线的峰强度为I1

所述四方晶2的(001)面的衍射X射线的峰强度为I2

I2/(I1+I2)为0.90以上且小于1.00。

4.根据权利要求1~3中任一项所述的压电薄膜,其中,

所述钙钛矿型氧化物含有铋、铁、元素EB及氧,

所述元素EB为选自镁、铝、锆、钛、镍及锌中的至少一种元素。

5.根据权利要求1~4中任一项所述的压电薄膜,其中,

所述四方晶1以下述化学式1表示,

下述化学式1中的EA为选自Na、K及Ag中的至少一种元素,

下述化学式1中的EB为选自Mg、Al、Zr、Ti、Ni及Zn中的至少一种元素,

下述化学式1中的x1为0.10以上且0.90以下,

下述化学式1中的y1为0.05以上且0.85以下,

下述化学式1中的z1为0.05以上且0.85以下,

x1+y1+z1为1.00,

下述化学式1中的α为0.00以上且小于1.00

x1(Bi1-αEAα)EBO3-y1BiFeO3-z1Bi(Fe0.5Ti0.5)O3 (1)。

6.根据权利要求1~5中任一项所述的压电薄膜,其中,

所述四方晶2以下述化学式2表示,

下述化学式2中的EA为选自Na、K及Ag中的至少一种元素,

下述化学式2中的EB为选自Mg、Al、Zr、Ti、Ni及Zn中的至少一种元素,

下述化学式2中的x2为0.10以上且0.85以下,

下述化学式2中的y2为0.10以上且0.85以下,

下述化学式2中的z2为0.05以上且0.80以下,

x2+y2+z2为1.00,

下述化学式2中的α为0.00以上且小于1.00

x2(Bi1-αEAα)EBO3-y2BiFeO3-z2Bi(Fe0.5Ti0.5)O3 (2)。

7.根据权利要求1~6中任一项所述的压电薄膜,其中,

所述第一压电层的厚度为10nm以上且300nm以下。

8.一种压电薄膜元件,其中,

具备权利要求1~7中任一项所述的压电薄膜。

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