[发明专利]压电薄膜、压电薄膜元件及压电换能器在审
申请号: | 202210188165.0 | 申请日: | 2022-02-28 |
公开(公告)号: | CN115050888A | 公开(公告)日: | 2022-09-13 |
发明(设计)人: | 森下纯平 | 申请(专利权)人: | TDK株式会社 |
主分类号: | H01L41/083 | 分类号: | H01L41/083;H01L41/18;H01L41/187;H04R17/00;B06B1/06 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 杨琦 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 压电 薄膜 元件 换能器 | ||
1.一种压电薄膜,其中,
是具备第一压电层、和直接重叠于所述第一压电层的第二压电层的压电薄膜,
所述第一压电层包含钙钛矿型氧化物的四方晶1,
所述第二压电层包含钙钛矿型氧化物的四方晶2,
所述四方晶1的(001)面在所述压电薄膜的表面的法线方向上取向,
所述四方晶2的(001)面在所述压电薄膜的表面的法线方向上取向,
所述四方晶1的(001)面的间隔为c1,
所述四方晶1的(100)面的间隔为a1,
所述四方晶2的(001)面的间隔为c2,
所述四方晶2的(100)面的间隔为a2,
c2/a2大于c1/a1,
c1/a1为1.015以上且1.050以下。
2.根据权利要求1所述的压电薄膜,其中,
c2/a2为1.051以上且1.250以下。
3.根据权利要求1或2所述的压电薄膜,其中,
所述四方晶1的(001)面的衍射X射线的峰强度为I1,
所述四方晶2的(001)面的衍射X射线的峰强度为I2,
I2/(I1+I2)为0.90以上且小于1.00。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的压电薄膜,其中,
所述钙钛矿型氧化物含有铋、铁、元素EB及氧,
所述元素EB为选自镁、铝、锆、钛、镍及锌中的至少一种元素。
5.根据权利要求1~4中任一项所述的压电薄膜,其中,
所述四方晶1以下述化学式1表示,
下述化学式1中的EA为选自Na、K及Ag中的至少一种元素,
下述化学式1中的EB为选自Mg、Al、Zr、Ti、Ni及Zn中的至少一种元素,
下述化学式1中的x1为0.10以上且0.90以下,
下述化学式1中的y1为0.05以上且0.85以下,
下述化学式1中的z1为0.05以上且0.85以下,
x1+y1+z1为1.00,
下述化学式1中的α为0.00以上且小于1.00
x1(Bi1-αEAα)EBO3-y1BiFeO3-z1Bi(Fe0.5Ti0.5)O3 (1)。
6.根据权利要求1~5中任一项所述的压电薄膜,其中,
所述四方晶2以下述化学式2表示,
下述化学式2中的EA为选自Na、K及Ag中的至少一种元素,
下述化学式2中的EB为选自Mg、Al、Zr、Ti、Ni及Zn中的至少一种元素,
下述化学式2中的x2为0.10以上且0.85以下,
下述化学式2中的y2为0.10以上且0.85以下,
下述化学式2中的z2为0.05以上且0.80以下,
x2+y2+z2为1.00,
下述化学式2中的α为0.00以上且小于1.00
x2(Bi1-αEAα)EBO3-y2BiFeO3-z2Bi(Fe0.5Ti0.5)O3 (2)。
7.根据权利要求1~6中任一项所述的压电薄膜,其中,
所述第一压电层的厚度为10nm以上且300nm以下。
8.一种压电薄膜元件,其中,
具备权利要求1~7中任一项所述的压电薄膜。
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