[实用新型]一种节能高效磁力研磨机有效
| 申请号： | 200820300395.7 | 申请日： | 2008-03-20 |
| 公开（公告）号： | CN201189634Y | 公开（公告）日： | 2009-02-04 |
| 发明（设计）人： | 徐金发 | 申请（专利权）人： | 湖州星星研磨有限公司 |
| 主分类号： | B24B31/112 | 分类号： | B24B31/112 |
| 代理公司： | 贵阳中新专利商标事务所 | 代理人： | 吴无惧 |
| 地址： | 313012浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种节能高效磁力研磨机，它包括机架和支撑台，在机架上安装有旋转托盘及带动旋转托盘转动的电机，并且在旋转托盘上设有强磁体；在支撑台上设置有盛装容器，盛装容器位于旋转托盘的上方，旋转托盘上的强磁体非对称排布。本实用新型将磁力研磨机旋转托盘上的强磁体设置为两对，相邻两强磁体的磁极相反且不对称放置，这样就可使磁力研磨机的中间无磁区域减少，容器内的磁作用区域增大，减少磨削加工时的死角，使磁力研磨机的效率和加工效果进一步提升。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 节能 高效 磁力 研磨机 | ||
【主权项】：
1.一种节能高效磁力研磨机，它包括机架(1)和支撑台(2)，其特征在于：在机架(1)上安装有旋转托盘(3)及带动旋转托盘(3)转动的电机(4)，并且在旋转托盘(3)上设有强磁体(5)；在支撑台(2)上设置有盛装容器(6)，盛装容器(6)位于旋转托盘(3)的上方，旋转托盘(3)上的强磁体(5)非对称排布。
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- 磁流变精加工头，包括磁极片，其被定制成喷嘴形状和轮形状以最大化体积去除率。用于磁流变流体带的承载轮是非球面的，优选具有垂直于旋转轴的短半径和平行于旋转轴的长半径的环形，尽管所述轮的形状可为平行于轮的旋转轴的任何非球面或自由形态，例如，环形或圆柱形。通过如下方式产生磁场：使极片塑形，以在它们之间的限定间隙上产生基本均匀的磁场，从而使流体带的区域中的场强是均匀的。喷嘴具有非圆形开口以提供具有覆盖磁场的宽度范围的宽度的流体流。这三个特征的组合允许新颖的MRF去除功能元件。
- 一种通电线圈式磁流变抛光液回收器及装置-202210066348.5
- 陈立;牛子奕;郑永成;张云飞;黄文;周涛;张建飞;李凯隆 - 中国工程物理研究院机械制造工艺研究所
- 2022-01-20 - 2022-04-12 - B24B31/112
- 本发明公开了一种通电线圈式磁流变抛光液回收器及装置，涉及抛光加工技术领域，其技术方案要点是：包括流道以及与流道套装的回收壳体，回收壳体的侧面设有引流口，所述回收壳体内环设有一端开口的狭缝空腔，回收壳体内封装有漆包线圈；所述回收壳体为磁导材料；所述漆包线圈通电后使狭缝空腔内外两侧的壳体壁形成磁性相反的磁极，以在狭缝空腔处形成漏磁场。本发明在不需要屏蔽层的情况下可以在狭缝空腔处形成漏磁场，同时可实现磁场强度的灵活调整，降低抛光液对抛光轮的磨损，避免抛光液硬化，拆卸后回收器无磁场，磁流变抛光液不会附着于回收器，便于清洗。
- 一种可实现复杂面形加工的集群磁流变抛光装置-202122465909.2
- 卢明明;林洁琼;李卫幸;周家康;杜永盛;张立敏;刘宇阳;赵世昕;刘长青;赵德春 - 长春工业大学
- 2021-10-13 - 2022-03-15 - B24B31/112
- 本实用新型涉及超精密加工领域，一种可实现复杂面形加工的集群磁流变抛光装置，其中偏摆机构安装在第一竖直面移动机构的动力端，竖直面移动机构通过动力端驱动偏摆机构在竖直面内移动，第一转动电机安装在偏摆机构的动力端，第一转动电机可由偏摆机构带动在第二竖直面内形成偏摆动作，第一转动电机的动力端通过旋转轴连接抛光工件夹具头，该抛光工件夹具头用于夹持待抛光的工件，抛光工件夹具头可由第一转动电机驱动旋转，抛光盘的顶面为抛光面，抛光盘的顶面具有用于盛放磁流抛光液的容纳槽，抛光盘内置磁场发生装置。本抛光装置，在实现复杂面形加工的同时增加抛光过程抛光力。
- 多级匀速自循环式磁流变抛光机-202111390789.2
- 王鸿云;卢昊文;胡佳远;李永康;蒋彦东;卢淇洁;毕成 - 台州学院
- 2021-11-16 - 2022-03-01 - B24B31/112
- 本发明公开了多级匀速自循环式磁流变抛光机，用于抛光管件内壁，包括进液管、磁流变液加速器、螺纹旋转器、回液管和磁流变抛光液，所述磁流变抛光液依次流经进液管、螺旋旋转器、管件和回液管，并且磁流变抛光液从回液管的尾部流回进液管，所述磁流变液加速器套设在进液管上，所述螺纹旋转器成管状，螺纹旋转器内侧壁上设有内螺纹，用于让流经螺纹旋转器的磁流变抛光液产生周向旋转，所述回液管上设有至少一组回流控制机构，每组回流控制机构包括回流线圈和回流控制器，所述回流线圈套设在回液管上，所述回流控制器和回流线圈电连接。形成多种抛光形式，对管件内壁进行抛光，大大提升抛光效率，另外还保证整个回路中磁流变抛光液的速度相同。
- 一种高基频晶片研磨工艺-202111407298.4
- 李渐进;翟彦飞;石玉浩;卫磊 - 济源石晶光电频率技术有限公司
- 2021-11-24 - 2022-02-11 - B24B31/112
- 本发明涉及晶片加工技术领域，公开了一种高基频晶片研磨工艺。本发明通过设置上料、装夹、开始研磨、降温、清理研磨碎屑、磁流变液回收利用和拆卸等步骤，通过采用磁流变液对晶片进行研磨的工艺设计，在使用时磁流变液能够降低与晶片进行研磨时硬性接触，防止晶片在进行研磨时产生较大的磨损，达到了降低废品率的目的，通过喷嘴内径和磁流变液流速可调节的设置，在使用时进一步的提高研磨效率和质量，通过采用冷气箱对研磨部位进行降温的设置，使晶片内部的应力增大，达到了降低晶片内部应力的目的，提高了晶片质量，并且冷气温度为可调节，可以根据实际使用时调整冷气温度，实现了实际使用时针对不用晶片的温度环境降温效果会更好的目的。
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