[发明专利]低插损铁氧体微波器件及其铁氧体加工方法在审
| 申请号： | 201110407710.2 | 申请日： | 2011-12-09 |
| 公开（公告）号： | CN102569964A | 公开（公告）日： | 2012-07-11 |
| 发明（设计）人： | 黄宁;朱洁文 | 申请（专利权）人： | 捷考奥电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | H01P1/36 | 分类号： | H01P1/36;H01P1/38;H01P11/00 |
| 代理公司： | 上海申汇专利代理有限公司 31001 | 代理人： | 俞宗耀 |
| 地址： | 201108 上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种低插损铁氧体微波器件及其铁氧体加工方法，属微波器件技术领域，所解决的技术问题是降低插损。该低插损铁氧体微波器件，包括铁氧体器件本体，其特征在于：所述铁氧体器件本体的一个侧面上涂有一层金属银涂层。其加工方法为：1）将铁氧体待涂银层的侧面朝向上方，用丝网平贴所述铁氧体表面；2）将由银粉和环氧树脂组成的含银浆料涂覆在所述铁氧体表面上，构成均匀的厚度为0.002±0.0005mm金属银涂层；3）150℃焙烘0.5～1小时后，再高温烧结使金属银涂层固化。将银浆在铁氧体表面薄薄涂覆一层，能将插损降至0.2dB以下，其远低于现有铁氧体微波器件。 | ||
| 搜索关键词： | 低插损 铁氧体 微波 器件 及其 加工 方法 | ||
【主权项】：
一种低插损铁氧体微波器件，包括铁氧体器件本体，其特征在于：所述铁氧体器件本体的一个侧面上涂有一层金属银涂层。
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