[发明专利]在可变形图像配准工作流中用户输入和变形矢量场的校正的集成有效
申请号: | 201280042377.2 | 申请日: | 2012-08-16 |
公开(公告)号: | CN103782320B | 公开(公告)日: | 2017-03-15 |
发明(设计)人: | Y·马尔亚;K·A·布兹杜泽克 | 申请(专利权)人: | 皇家飞利浦有限公司 |
主分类号: | G06T7/00 | 分类号: | G06T7/00;A61N5/10 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司72002 | 代理人: | 王英,张立达 |
地址: | 荷兰艾*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 计算相对地在空间上配准第一图像(16)和第二图像(14)的变形矢量场(DVF)(22)。使用所述DVF调节描绘第一图像(16)中的结构的轮廓(26),以便在所述第二图像(14)中生成所述结构的初始轮廓(52)。接收所述第二图像中的所述结构的最终轮廓(56)。以所述第二图像中的所述结构的所述初始轮廓和所述最终轮廓为基础来校正所述DVF以便生成校正的DVF(32)。所述校正可以包括计算与所述初始轮廓和所述最终轮廓相关的调整DVF(62)并且将所述DVF与所述调整DVF进行组合以便生成校正的DVF。可以通过显示叠置有所述初始轮廓的所述第二图像并且接收叠置的轮廓的用户调整来接收所述最终轮廓,对于每一个接收到的用户调整,更新所述叠置的轮廓。 | ||
搜索关键词: | 变形 图像 工作流 用户 输入 矢量 校正 集成 | ||
【主权项】:
一种用于校正变形矢量场的方法,包括:计算相对地在空间上配准第一图像(16)和第二图像(14)的变形矢量场(DVF)(22);使用所述变形矢量场调节描绘所述第一图像(16)中的结构的轮廓(26),以便在所述第二图像(14)中生成所述结构的初始轮廓(52);接收所述第二图像中的所述结构的最终轮廓(56);并且以所述第二图像中的所述结构的所述初始轮廓和所述最终轮廓为基础来校正所述变形矢量场,以便生成校正的变形矢量场(32),所述校正包括:计算与所述第二图像(14)中的所述结构的所述初始轮廓(52)和所述最终轮廓(56)相关的调整变形矢量场(62);并且将所述变形矢量场(22)与所述调整变形矢量场进行组合以便生成校正的变形矢量场(32);其中,所述计算、调节和校正由电子处理设备(42)执行。
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