[发明专利]应力降低装置有效

专利信息
申请号: 201310004946.0 申请日: 2013-01-07
公开(公告)号: CN103681587B 公开(公告)日: 2017-04-26
发明(设计)人: 庄曜群;徐语晨;刘浩君;庄其达;郭正铮;陈承先 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L23/498 分类号: H01L23/498;H01L21/48
代理公司: 北京德恒律治知识产权代理有限公司11409 代理人: 章社杲,孙征
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 应力降低装置。一种结构包括在第一半导体管芯的顶面上形成的多个连接件;在第一半导体管芯上形成并且通过多个连接件连接到第一半导体管芯的第二半导体管芯;以及在第一半导体管芯的边缘和多个连接件之间形成的第一伪导电平面,其中第一伪导电平面的边缘和第一距中性点距离(DNP)方向形成第一角度,其中第一角度小于或者等于45度。
搜索关键词: 应力 降低 装置
【主权项】:
一种半导体结构,包括:多个连接件,形成在第一半导体管芯的顶面上;第二半导体管芯,形成在所述第一半导体管芯上并且通过所述多个连接件与所述第一半导体管芯连接;第一伪导电平面,形成在所述第一半导体管芯的第一边缘和所述多个连接件之间,并且,所述第一伪导电平面的外缘与所述第一半导体管芯的第一边缘对齐,其中所述第一伪导电平面的外缘与第一距中性点距离(DNP)方向形成第一角度,其中所述第一角度小于或者等于45度;以及第二伪导电平面,形成在所述多个连接件和所述第一半导体管芯的第二边缘之间,并且所述第二伪导电平面的外缘与所述第一半导体管芯的第二边缘对齐。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台湾积体电路制造股份有限公司,未经台湾积体电路制造股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310004946.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top