[发明专利]感光胶的用途无效
申请号: | 201310570253.8 | 申请日: | 2013-11-16 |
公开(公告)号: | CN103588501A | 公开(公告)日: | 2014-02-19 |
发明(设计)人: | 闻敬伟 | 申请(专利权)人: | 闻敬伟 |
主分类号: | C04B41/53 | 分类号: | C04B41/53 |
代理公司: | 蚌埠鼎力专利商标事务所有限公司 34102 | 代理人: | 王琪 |
地址: | 233000 安*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明公布了一种感光胶的用途,石材化学处理成型工艺中,感光胶与水混合后涂抹在石材表面,曝光后在石材加工表面形成胶膜。将感光胶按预先设定图形涂抹在石材表面,使石材表面部分涂抹有感光胶,曝光后,利用感光胶自身特性遇强光反应并自身从胶体结成膜,感光胶在石材表面结成感光胶膜,再将表面有感光胶膜的石材放入强酸性溶液中,感光胶膜不与强酸酸性溶液发生反应,但石材表面未结有感光胶膜的部位与酸性溶液发生反应,腐蚀石材,进而在石材表面形成原先涂抹感光胶区域的凸起图案,达到石材化学处理成型的效果。 | ||
搜索关键词: | 感光 用途 | ||
【主权项】:
感光胶的用途,其特征在于:石材化学处理成型工艺中,感光胶与水混合并涂抹在石材加工表面,曝光后在石材加工表面形成胶膜。
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- 一种硅表面抗反射纳米阵列结构的制备方法:将硅片放入ICP系统中,在基础真空1.0×10-6Torr,温度-100℃~-140℃,气体流量比(SF6/O2)36/22-44/14,气压6=25mTorr,RIE功率3-6W和ICP功率800-1000W的条件下,在硅片表面得到纳米锥状阵列结构。本发明采用低温刻蚀技术,无需掩模工艺,直接刻蚀制备大面积具有超抗反射特性的硅表面纳米锥阵列结构,并且通过调节和控制相应参数,实现对纳米锥结构形貌的调控。
- 一种具有单原子层台阶的六角氮化硼基底及其制备方法与应用-201110247262.4
- 丁古巧;唐述杰;谢晓明;江绵恒 - 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
- 2011-08-25 - 2012-02-01 - C04B41/53
- 本发明提供了一种具有单原子层台阶的六角氮化硼(hBN)基底及其制备方法,将hBN基底表面解理得到新鲜的解理面,然后用氢气高温下刻蚀六角氮化硼,得到可控的、规则的单原子层台阶。本发明利用了氢气对hBN的各向异性刻蚀作用,通过调节氢气比例、退火温度、退火时间来控制hBN的刻蚀速率和刻蚀程度,达到刻蚀出规则单原子台阶的目的。该制备工艺和化学气相沉积法制备石墨烯的工艺相兼容,可以用于石墨烯纳米带的制备。主要应用于新型石墨烯电子器件。
- 金刚石洗沙台-201120142424.3
- 洪涌;洪涛 - 安徽宏晶新材料股份有限公司
- 2011-05-07 - 2011-12-21 - C04B41/53
- 本实用新型公开了一种金刚石洗沙台,包括工作台、加热座、洗沙箱,所述的加热座固定安装在工作台上,所述加热座表面铺设有电加热线,所述的洗沙箱放置在加热座上,所述的洗沙箱上表面开口,所述的洗沙箱内设有铁丝网兜,所述铁丝网兜口部设有提手,本实用新型结构简单、使用方便、洗沙效率高,能有效提高经济效益。
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