[发明专利]集成式光刻板制作方法及LED芯片晶粒的分选方法有效

专利信息
申请号: 201410182557.1 申请日: 2014-05-04
公开(公告)号: CN103969942B 公开(公告)日: 2017-08-25
发明(设计)人: 陈小雪;王红锋;彭超 申请(专利权)人: 湘能华磊光电股份有限公司
主分类号: G03F1/38 分类号: G03F1/38;H01L33/00
代理公司: 长沙智嵘专利代理事务所43211 代理人: 黄子平
地址: 423038 湖南省郴*** 国省代码: 湖南;43
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供了一种集成式光刻板制作方法及制得L E D芯片的分选方法。其中集成式光刻板制作方法,包括以下步骤1)在集成式光刻板上彼此垂直设置的两条分割线,将光刻板划分成四个象限,并将两条分割线分别作为横坐标线和纵坐标,形成坐标系;2)在任一象限中以坐标系的零点为基准,向横坐标线和纵坐标方向延伸形成包含至少一个晶粒模板的方形标准单元区域;3)在四个象限内,连续设置多个与标准单元区域内晶粒模板图形和规格相同的对照单元区域,且每个对照单元区域内各晶粒模板的排列位置与标准单元区域内各晶粒模板的排布位置相同,从而得到集成式光刻板。该方法通过设计集成式光刻板上晶粒的图形和规格,从而将L E D芯片的晶粒快速分开。
搜索关键词: 集成 刻板 制作方法 及其 led 芯片 晶粒 分选 方法
【主权项】:
一种集成式光刻板的制作方法,其特征在于,包括以下步骤:1)在所述集成式光刻板上彼此垂直设置的两条分割线,将光刻板划分成四个象限,并将所述两条分割线分别作为横坐标线和纵坐标,形成坐标系;2)在任一所述象限中以所述坐标系的零点为基准,向横坐标线和纵坐标方向延伸形成包含至少一个晶粒模板的方形标准单元区域;3)在四个象限内,连续设置多个与所述标准单元区域内晶粒模板图形和规格相同的对照单元区域,且每个所述对照单元区域内各晶粒模板的排列位置与所述标准单元区域内各晶粒模板的排布位置相同,从而得到所述集成式光刻板;所述标准单元区域中包括A粒×B粒所述晶粒模板,所述A≥1,所述B≥1且所述A和所述B不能同时为1;所述标准单元区域中各所述晶粒模板的图形和规格彼此不同。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于湘能华磊光电股份有限公司,未经湘能华磊光电股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201410182557.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top