[发明专利]一种分子结构中SiH2和SiH1比例可控的全氢聚硅氮烷和由其制备的疏水透明高硬度涂层及其合成方法有效
申请号: | 201410315655.8 | 申请日: | 2014-07-03 |
公开(公告)号: | CN104072781B | 公开(公告)日: | 2016-11-09 |
发明(设计)人: | 张宗波;徐彩虹;罗永明 | 申请(专利权)人: | 中国科学院化学研究所 |
主分类号: | C08G77/62 | 分类号: | C08G77/62;C09D183/16;C09D7/12;B05D5/08 |
代理公司: | 北京庆峰财智知识产权代理事务所(普通合伙) 11417 | 代理人: | 刘元霞;谢蓉 |
地址: | 100190 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提供了分子结构中SiH2和SiH1比例可控的全氢聚硅氮烷的合成方法。由该方法制备的全氢聚硅氮烷,SiH1与SiH2的比例可在4‑40范围内调节。在此基础上,本发明提供了采用SiH2和SiH1比例可控的全氢聚硅氮烷来制备疏水透明高硬度涂层的方法。由该方法制备的涂层,其硬度在8H以上,水接触角在90°以上,可见光透过率90%以上。 | ||
搜索关键词: | 一种 分子结构 sih sub 比例 可控 全氢聚硅氮烷 制备 疏水 透明 硬度 涂层 及其 合成 | ||
【主权项】:
一种合成分子结构中SiH1和SiH2比例可控的PHPS的方法,其是以H2SiCl2和过量的氨为原料,以溶剂为反应介质,在惰性气氛低温情况下进行反应,反应结束后,产物经过滤、浓缩得到所述的PHPS;其中,所述反应加料顺序依次为溶剂、H2SiCl2和NH3;所述方法包括如下步骤:惰性气氛保护的反应容器中加入溶剂,控制反应器温度为低温,加入H2SiCl2,再加入过量NH3,控制反应器温度为低温,控制反应时间,反应物经过滤、浓缩后得到最终产物;所述反应温度在‑80℃‑0℃;所述反应时间在4‑60h;所述原料NH3和原料H2SiCl2的摩尔比例在5‑50之间;所述溶剂包括三氯甲烷、二氯甲烷、四氢呋喃、石油醚、二丁醚、二甲苯、甲苯、正己烷、辛烷、庚烷、正癸烷、乙酸乙酯、醋酸戊酯、醋酸异戊酯、丙酮、甲基丁酮或甲基异丁酮,或者是其中两种或以上溶剂的混合物;所述PHPS的数均分子量在800‑30000之间。
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