[发明专利]测量方法、测量设备、光刻设备和器件制造方法

摘要

本发明涉及一种测量设备，包括：光学系统，用以将照射辐射提供至周期性结构上的光斑中，且用以接收由所述周期性结构重新导向的辐射，所述光学系统包括第一光阑和第二光阑，第一光阑用以阻挡来自所述周期性结构的零阶辐射且允许非零阶辐射穿过，第二光阑用以阻挡穿过所述第一光阑的零阶辐射且允许所述非零阶辐射穿过；以及所述光学系统下游的辐射检测器，其用以接收所述非零阶辐射。

主权项

1.一种测量设备，包括：光学系统，用以将照射辐射提供至周期性结构上的光斑中，且用以接收由所述周期性结构重新导向的辐射，所述光学系统包括：第一光阑，用以阻挡来自所述周期性结构的零阶辐射且允许非零阶辐射穿过；和第二光阑，定位于第一光阑的下游且用以阻挡穿过所述第一光阑的零阶辐射且允许所述非零阶辐射穿过；以及辐射检测器，在所述光学系统的下游，并用以接收所述非零阶辐射，其中所述第一光阑在棱镜中，其中所述第二光阑是支撑臂结构中的一个或更多个臂的一部分或在所述一个或更多个臂上，所述支撑臂结构由框架可释放地支撑，其中所述支撑臂结构包括筒和用于与所述框架接合的一个或更多个突出部，所述突出部设置在所述筒的一端而所述臂设置在所述筒的另一端，其中所述支撑臂结构的臂最靠近所述棱镜，以及其中所述框架被从所述棱镜位移使得所述支撑臂结构的筒从所述框架的安装有所述支撑臂结构的表面向下悬挂。