[发明专利]高纯度铜电解精炼用添加剂、高纯度铜制法及高纯度电解铜有效
| 申请号： | 201610862243.5 | 申请日： | 2016-09-28 |
| 公开（公告）号： | CN106555208B | 公开（公告）日： | 2020-02-07 |
| 发明（设计）人： | 樽谷圭荣;久保田贤治;中矢清隆 | 申请（专利权）人： | 三菱综合材料株式会社 |
| 主分类号： | C25C1/12 | 分类号： | C25C1/12 |
| 代理公司： | 11018 北京德琦知识产权代理有限公司 | 代理人： | 康泉;王珍仙 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供高纯度铜电解精炼用添加剂、高纯度铜制法及高纯度电解铜。该高纯度铜电解精炼用添加剂包括电解铜的银氯降低剂，所述银氯降低剂由四唑或四唑衍生物(被称为四唑类)构成，被添加到铜电解精炼的铜电解液中。 | ||
| 搜索关键词： | 高纯度铜 电解铜 电解精炼 降低剂 四唑 银氯 添加剂 四唑衍生物 铜电解精炼 铜电解液 高纯度 制法 | ||
【主权项】：
1.一种高纯度铜电解精炼用添加剂，其特征在于，被添加到铜电解精炼的铜电解液中，/n所述高纯度铜电解精炼用添加剂包括电解铜的银氯降低剂，所述银氯降低剂由四唑类构成，/n所述四唑类为四唑或四唑衍生物，所述四唑衍生物为四唑的烷基衍生物、氨基衍生物或苯基衍生物。/n
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