[发明专利]一种带有GaN纳米线阵列的紫外探测器及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201610936288.2 申请日: 2016-11-01
公开(公告)号: CN106571405B 公开(公告)日: 2018-04-03
发明(设计)人: 何苗;王志成;郑树文;朱凝 申请(专利权)人: 华南师范大学
主分类号: H01L31/0304 分类号: H01L31/0304;H01L31/103;H01L31/18;B82Y20/00
代理公司: 广州嘉权专利商标事务所有限公司44205 代理人: 谭英强
地址: 510630 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种带有GaN纳米线阵列的紫外探测器及其制作方法,包括衬底和P型GaN薄膜层,所述P型GaN薄膜层设置在衬底的上表面,所述P型GaN薄膜层上生长有N型GaN纳米线阵列,所述N型GaN纳米线阵列中的N型GaN纳米线与P型GaN薄膜层之间形成有同质PN结。该方法包括通过旋涂玻璃液实现纳米线间隙填充绝缘,实现电注入;蒸镀透明导电层来扩展电流,实现纳米线阵列互联;并在所述P型GaN薄膜层上设有P型欧姆电极,在所述透明导电层上设有N型欧姆电极,制成纳米线阵列紫外探测器。本发明具有成本低、灵敏度高、性能稳定、制作方法简单、便于在实际工作中操作等优点。本发明作为一种紫外探测器及其制作方法可广泛应用于紫外探测技术领域中。
搜索关键词: 一种 带有 gan 纳米 阵列 紫外 探测器 及其 制作方法
【主权项】:
一种带有GaN纳米线阵列的紫外探测器,包括衬底和P型GaN薄膜层,所述P型GaN薄膜层设置在衬底的上表面,其特征在于:所述P型GaN薄膜层上生长有N型GaN纳米线阵列,所述N型GaN纳米线阵列中的N型GaN纳米线与P型GaN薄膜层之间形成有同质PN结;所述P型GaN薄膜层上制有第一窗口和设置在第一窗口四周边沿上的第二窗口,所述第一窗口上镀有催化剂,所述第二窗口上镀有钝化层;所述N型GaN纳米线阵列生长在所述第一窗口上。
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