[实用新型]插片机有效
申请号: | 201620544097.7 | 申请日: | 2016-06-07 |
公开(公告)号: | CN205863145U | 公开(公告)日: | 2017-01-04 |
发明(设计)人: | 申请(专利权)人: | ||
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L31/18 |
代理公司: | 江阴大田知识产权代理事务所(普通合伙)32247 | 代理人: | 刘宏亮 |
地址: | 214400 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型公开了一种插片机,包括第一输送架、第二输送架以及插片机构,第一输送架的输送方向与第二输送架的输送方向相垂直,第一输送架上设置有若干用于存储太阳能硅片的存储架,第二输送架上设置有若干用于收容太阳能硅片的收容架,插片机构包括圆形旋转底座、与圆形旋转底座相固定设置的若干L形旋转臂、沿着上下方向与旋转臂相滑动设置的插片架、固定设置于插片架底面的若干吸附板,吸附板呈中空结构,吸附板的两侧面上开设有若干与其空腔相连通的吸附孔,吸附板通过输送气管与真空泵相连通,插片架由气缸驱动滑动,通过负压吸附的方式将硅片限制在相邻吸附板之间,而后对硅片进行插片处理,不仅效率较高,而且保证硅片不受损坏。 | ||
搜索关键词: | 插片机 | ||
【主权项】:
一种插片机,其特征在于:包括第一输送架、第二输送架以及插片机构,所述第一输送架的输送方向与所述第二输送架的输送方向相垂直,所述第一输送架上设置有若干用于存储太阳能硅片的存储架,所述第二输送架上设置有若干用于收容所述太阳能硅片的收容架,所述插片机构包括圆形旋转底座、与所述圆形旋转底座相固定设置的若干L形旋转臂、沿着上下方向与所述旋转臂相滑动设置的插片架、固定设置于所述插片架底面的若干吸附板,所述吸附板呈中空结构,所述吸附板的两侧面上开设有若干与其空腔相连通的吸附孔,所述吸附板通过输送气管与真空泵相连通,所述插片架由气缸驱动滑动,若干所述L形旋转臂均匀分布于所述圆形旋转底座的外圆周上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于,未经许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201620544097.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种IC分离Die的控制装置
- 下一篇:蚀刻机的抗PID衰减装置
- 同类专利
- 挑拣装置-201620773246.7
- 王之奇 - 苏州晶方半导体科技股份有限公司
- 2016-07-21 - 2017-01-18 - H01L21/67
- 一种挑拣装置,包括第一置晶盘,所述第一置晶盘具有用于放置待挑拣晶粒的第一面;第二置晶盘,所述第二置晶盘具有用于放置已挑拣晶粒的第二面,所述第二面与所述第一面相对设置;挑拣机构,所述挑拣机构包括旋转部件以及与所述旋转部件相连的挑拣部件,其中,所述旋转部件绕旋转中心旋转,所述挑拣机构在进行挑拣工作时,所述旋转中心位于所述第一面与第二面之间,且所述挑拣部件经所述旋转部件的旋转在所述第一面与第二面之间移动。本实用新型提高晶粒挑拣效率,减小晶粒在挑拣工作中受到污染的概率。
- 一种固晶机用顶针-201620810621.0
- 冷洪伟;李敏 - 冷洪伟
- 2016-07-29 - 2017-01-18 - H01L21/67
- 本实用新型公开了一种固晶机用顶针,属于固晶机领域,其包括固定杆和设在固定杆前端的顶尖,顶尖侧面有避位锥度,避位锥度双边夹角的角度为6°至20°,避位锥度和顶尖圆角能平滑相接。该种固晶机用顶针,顶尖圆角设计完美,避位锥度双边的夹角角度设置合理,光洁度好,顶尖圆角和避位锥度平滑相接,精度高,使用寿命长。
- 一种固晶机用吸嘴-201620815581.9
- 冷洪伟;李敏 - 冷洪伟
- 2016-07-29 - 2017-01-18 - H01L21/67
- 本实用新型公开了一种固晶机用吸嘴,属于固晶机领域,其包括固定杆、设在固定杆前端的吸盘和轴向穿设在固定杆和吸盘中心的吸嘴内孔;吸盘侧面设有避位锥度;吸盘表面的直径为0.06mm至0.35mm,吸嘴内孔前端的直径为0.03mm至0.15mm。该种固晶机用吸嘴,精度高,使用寿命长。
- 一种便于太阳能板制作的去胶装置-201620833211.8
- 李成胜;赵伟良 - 浙江晶茂科技股份有限公司
- 2016-08-02 - 2017-01-18 - H01L21/67
- 本实用新型公开了一种便于太阳能板制作的去胶装置,包括固定台,固定台顶端的一侧固定安装有双轴电机,双轴电机的输出轴固定套装有齿轮,齿轮的外沿与链条的内侧相互啮合,双轴电机的输出轴通过链条与两端均固定套装有齿轮的被动轴传动连接,被动轴的两端均与开设在固定台顶端的套槽的两侧活动套接,被动轴上固定套装有软胶筒,固定台内腔顶端的两侧均固定安装有夹板,固定台内腔的底端开设有收集槽,收集槽的底端活动套装有去胶器。本实用新型通过刀片的热量快速刮除多余的胶体,通过设置软胶筒,通过设置夹板,使得太阳能板保持水平移动,达到快速传动太阳能板的效果,从而使得太阳能板快速去胶,从而提高了去胶的实用性。
- 用于操作衬底的工具和外延生长炉-201620331537.0
- 弗朗西斯科﹒科里亚;温琴佐﹒奥格里亚里;弗兰科﹒普雷蒂 - LPE公司
- 2016-04-19 - 2017-01-18 - H01L21/67
- 一种在外延生长炉中操作衬底的工具(1),包括吊臂(2)和抓握盘(3);所述抓握盘(3)包括一个置于其下表面的用以容纳待操作的衬底(6)的底座(5);抓握盘(3)安装在吊臂(2)上;其特征在于抓握盘(3)还包括一由弹性材料制成、可与待操作的衬底6的边缘接触的环形部件(31)。
- 蚀刻设备及其显影装置-201620693598.1
- -
- 2016-07-01 - 2017-01-11 - H01L21/67
- 本实用新型公开了一种蚀刻设备及其显影装置,该显影装置包括架体、传送装置、以及至少一个与所述传送装置相对设置在所述架体上的喷淋装置,所述喷淋装置包括至少一个喷淋单元,所述喷淋单元包括至少一个纵长的出水部,所述出水部长度方向与该传送装置的传送方向成锐角或者钝角。本实用新型通过传送装置传送基板,利用喷淋装置向基板喷淋液体,通过改变喷淋装置上的喷淋单元的出水部方向,使其与传送装置的传送方向成锐角或者钝角,从而解决了现有技术中因为“水池效应”引起的腐蚀液需要蚀刻的地方蚀刻不足或者蚀刻过度的问题。
- 湿法刻蚀设备-201620808615.1
- -
- 2016-07-29 - 2017-01-11 - H01L21/67
- 本实用新型提供一种湿法刻蚀设备,包括反应室、可旋转的支撑平台和第一喷嘴,所述反应室的内壁上设置有侦测器,所述侦测器连接到湿法刻蚀设备控制端,所述支撑平台设置在所述反应室内,所述支撑平台用于放置待处理的晶圆,所述喷嘴设置所述支撑平台上。本实用新型的湿法刻蚀设备通过在反应室的内壁上设置侦测器,该侦测器连接到湿法刻蚀设备控制端,在湿法刻蚀过程中,当晶圆转动异常时,其上的液体(反应液)将会溅射出来,当侦测器侦测到溅射到反应室的内壁上的反应液时,便可得到晶圆转动异常的信息,然后便可通过湿法刻蚀设备控制端来控制湿法刻蚀设备的工作,防止晶圆转动异常损伤到晶圆,从而及时处理并减少损失。
- 蚀刻设备及其蚀刻装置-201620835149.6
- -
- 2016-08-03 - 2017-01-11 - H01L21/67
- 本实用新型公开了一种蚀刻设备及其蚀刻装置,该蚀刻装置包括机架以及喷液装置,该机架包括用于收容蚀刻液的蚀刻腔以及水平贯穿该蚀刻腔的输送通道,该喷液装置安装于该机架内与该输送通道正对;该喷液装置包括上喷液单元以及与该上喷液单元连成一体的下喷液单元,该上喷液单元位于该输送通道上方且向下正对该输送通道,该下喷液单元位于该输送通道下方且向上正对该输送通道。本实用新型的蚀刻装置中,由于喷液装置的上喷液单元与下喷液单元为连成一体的构造,为周边配套装置的安装提供了便利。
- 一种用于SiCIGBT外延工艺表面处理的腔体-201620885816.1
- -
- 2016-08-16 - 2017-01-11 - H01L21/67
- 一种用于SiC IGBT外延工艺表面处理的腔体,它是在传统的等离子刻蚀腔体上方引入了可高温加热的卤钨灯管模块,在腔体的下电极下方引入了红外温度探头。在SiC IGBT器件外延制作过程中,在该腔体内先对衬底表面进行等离子刻蚀和高温退火处理,然后腔体维持真空状态进行外延生长。在外延生长前对衬底表面利用等离子刻蚀和高温退火的方法进行处理,可以获得清洁、平整、抗氧化能力强的衬底表面,并且可以改善衬底的晶体缺陷,消除晶体内的应力。在此种衬底表面上可以生长出高质量的外延层,对SiC IGBT器件产品的良率和整体性能起到了改善和提高。
- 贴片式半导体器件生产线-201620641794.4
- -
- 2016-06-24 - 2017-01-11 - H01L21/67
- 贴片式半导体器件生产线。涉及半导体器件加工领域,尤其涉及贴片式半导体器件生产线。提供了一种结构简单,连续生产,提高工作效率的贴片式半导体器件生产线。所述切筋机的出口连接水平输送带的进口,所述水平输送带穿过加热区和冷却区,所述水平输送带的出口位于载具组件的上方;所述载具组件包括若干依次堆叠的托盘,所述托盘的底部设有升降杆。所述加热区包括加热仓,所述加热仓的两侧设有通过气缸连接的拉门一;所述冷却区包括冷却仓,所述加热仓的两侧设有通过气缸连接的拉门二。所述拉门一和拉门二上分别设有感应器,所述感应器用于控制气缸。本实用新型方便连续生产,操作可靠。
- 一种手工补点器-201620712809.1
- -
- 2016-07-07 - 2017-01-04 - H01L21/67
- 本实用新型提供了一种手工补点器,其包括上下连接的上套管及下套管,所述上套管的顶壁上穿设有按键帽,所述按键帽的下端连接有能够上下移动的传导部;所述下套管的内腔中设有能够上下滑动的滑动块,所述下套管的下端开口处嵌设有限位块,所述滑动块与所述限位块之间设有回位弹簧;所述下套管内还穿设有内置管,所述内置管内穿设有鱼线,所述内置管的外侧套设有盛有墨水的墨管。本实用新型可以方便地完成鱼线的更换,而不需要更换其他部件,有效地节约了生产成本。
- 一对多的自动替换料管装置-201620824302.5
- -
- 2016-07-29 - 2017-01-04 - H01L21/67
- 本实用新型涉及一对多的自动替换料管装置,其特征是:包括固定座,在固定座上安装用于固定多个料管的旋转固定装置、用于推动料管至上料处的推送装置、用于夹紧料管的夹紧装置、用于带动旋转固定装置、推送装置和夹紧装置在水平方向移动的移动装置以及用于带动旋转固定装置、推送装置和夹紧装置在竖直方向移动的推动装置。本实用新型不仅能增加整体装置工作的稳定性,而且提高工作效率,还可以减少工人的劳动量,降低生产成本。
- 一种利用皮带传输的单晶片刷洗结构-201620468432.X
- -
- 2016-05-19 - 2017-01-04 - H01L21/67
- 本实用新型公开了一种利用皮带传输的单晶片刷洗结构,其特征在于:所述单晶片刷洗结构包括皮带搬运刷洗结构,刷洗定位结构、刷洗升降组件、喷嘴固定支架、清洗液喷嘴、清水喷嘴、定位结构护罩、皮带托架、支撑块、刷洗槽、工作平台、亚克力挡水护罩及紧固件,所述皮带搬运刷洗结构安装在支撑块和工作平台上,将工件放在搬运皮带上,通过调速电机驱动,利用皮带的摩擦力,可以实现将工件搬运到所述刷洗升降组件的刷洗主轴上,所述刷洗槽安装在工作平台和皮带搬运刷洗结构之间。
- 一种IC分离Die的控制装置-201620510953.7
- -
- 2016-05-30 - 2017-01-04 - H01L21/67
- 本实用新型公开一种IC分离Die的控制装置,所述IC包括至少两颗叠封在一起的Die和位于所述Die之间的胶体,所述控制装置包括:研磨体和加热器,所述研磨体用于研磨IC的基板,使得所述基板减薄并露出所述胶体;所述加热器用于对IC进行加热、烘烤,使得IC胶体脆化变质。本实用新型通过研磨体对IC的基板进行研磨,使得所述基板减薄并露出所述胶体;再通过加热器对加热、烘烤,使得IC胶体脆化变质,从而使得胶体无法再进行膨胀,使得胶体失去膨胀特性,进而就方便IC通过热酸分离两颗或多颗叠封的Die。
- 插片机-201620544097.7
- -
- 2016-06-07 - 2017-01-04 - H01L21/67
- 本实用新型公开了一种插片机,包括第一输送架、第二输送架以及插片机构,第一输送架的输送方向与第二输送架的输送方向相垂直,第一输送架上设置有若干用于存储太阳能硅片的存储架,第二输送架上设置有若干用于收容太阳能硅片的收容架,插片机构包括圆形旋转底座、与圆形旋转底座相固定设置的若干L形旋转臂、沿着上下方向与旋转臂相滑动设置的插片架、固定设置于插片架底面的若干吸附板,吸附板呈中空结构,吸附板的两侧面上开设有若干与其空腔相连通的吸附孔,吸附板通过输送气管与真空泵相连通,插片架由气缸驱动滑动,通过负压吸附的方式将硅片限制在相邻吸附板之间,而后对硅片进行插片处理,不仅效率较高,而且保证硅片不受损坏。
- 蚀刻机的抗PID衰减装置-201620544826.9
- -
- 2016-06-07 - 2017-01-04 - H01L21/67
- 本实用新型公开了一种蚀刻机的抗PID衰减装置,包括用于对太阳能硅片进行加工的蚀刻机、穿过蚀刻机用于对太阳能硅片进行输送的硅片输送架,位于蚀刻机出口处的硅片输送架的上方设置有罩壳,罩壳通过臭氧输送管与臭氧发生器相连通,罩壳的开口朝下且正对硅片输送架上的太阳能硅片,罩壳内设置有一层均流网,均流网上密布有若干均流孔,臭氧与硅片表面的硅原子进行反应生成1‑2nm的SiO2,这样表面的悬挂健可以完全的被钝化。在组件实际使用过程中能有效阻止有害杂质Na+离子的移动,从而杜绝组件PID现象的产生。
- 一种新型硅片清洗装置-201620578957.9
- -
- 2016-06-15 - 2017-01-04 - H01L21/67
- 本实用新型提供了一种新型硅片清洗装置,包括与外部水源连通的供水管和设置在供水管上的至少一个喷水组件,每个喷水组件包括供水支管、集水槽、喷水条和控制阀,所述供水支管的一端与所述供水管连接,另一端与所述集水槽连接,所述控制阀设置在所述供水支管上,所述喷水条与所述集水槽连接,所述喷水条上安装有多个喷淋头,多个喷淋头均匀分布在喷水条上。本实用新型解决了清洗硅片时水分布不均匀问题,使清洗更加完全、彻底,提高了硅片的成品率,实现了较好的清洗效果。
- 专利分类