[发明专利]图形密度计算方法在审

专利信息
申请号: 201710079130.2 申请日: 2017-02-14
公开(公告)号: CN106780600A 公开(公告)日: 2017-05-31
发明(设计)人: 金晓亮;袁春雨 申请(专利权)人: 上海华虹宏力半导体制造有限公司
主分类号: G06T7/62 分类号: G06T7/62;G06T5/00
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)31237 代理人: 屈蘅
地址: 201203 上海市浦东*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明揭示了一种图形密度计算方法。本发明提供的图形密度计算方法包括根据采样率确定图形的采样区域;沿图形边界扫描,建立小波变换索引;计算小波变换每个子块与图形边界相交的面积,获得子块系数;根据子块系数构建各阶小波变换矩阵;将各阶小波变换矩阵依次相加,得到不同级次下的图形密度分布。由此采用了小波变换,能够同时给出多个范围的密度分布,而且可以大幅减小计算量,提高了计算效率。
搜索关键词: 图形 密度 计算方法
【主权项】:
一种图形密度计算方法,包括:根据采样率确定图形的采样区域;沿图形边界扫描,建立小波变换索引;计算小波变换每个子块与图形边界相交的面积,获得子块系数;根据子块系数构建各阶小波变换矩阵;将各阶小波变换矩阵依次相加,得到不同级次下的图形密度分布。
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