[发明专利]盐穴储气库的腔体修复方法在审

专利信息
申请号: 201711070327.6 申请日: 2017-11-03
公开(公告)号: CN109751081A 公开(公告)日: 2019-05-14
发明(设计)人: 杨海军;李龙;李建君;翁小红;陈加松;巴金红;程林;刘继芹;刘玉刚;张青庆;王成林;刘春;王元刚 申请(专利权)人: 中国石油天然气股份有限公司
主分类号: E21F17/16 分类号: E21F17/16
代理公司: 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 代理人: 周莉
地址: 100007 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种盐穴储气库的腔体修复方法,方法包括:a、根据盐穴储气库的腔体的形状和井筒的深度,确定需要改造层段上界面的深度、需要改造层段下界面的深度、需要保护层段上界面的深度、以及需要保护层段下界面的深度;b、根据需要改造层段上界面的深度、需要改造层段下界面的深度、需要保护层段上界面的深度、以及需要保护层段下界面的深度,确定阻溶剂与卤水界面的最大深度和阻溶剂与卤水界面的最小深度;c、根据分布式光纤测温系统实时监测腔体的垂向温度,实时监控阻溶剂与卤水界面的深度在阻溶剂与卤水界面的最大深度和阻溶剂与卤水界面的最小深度之间,对需要改造层段进行溶蚀。该方法可实时监控阻溶剂与卤水界面的深度。
搜索关键词: 卤水 阻溶剂 保护层 腔体 上界 下界 盐穴储气库 改造 实时监控 分布式光纤测温系统 修复 实时监测 井筒 垂向 溶蚀
【主权项】:
1.一种盐穴储气库的腔体修复方法,其特征在于,所述方法包括:a、根据所述盐穴储气库的腔体的形状和井筒的深度,确定需要改造层段上界面的深度、需要改造层段下界面的深度、需要保护层段上界面的深度、以及需要保护层段下界面的深度;b、根据所述需要改造层段上界面的深度、所述需要改造层段下界面的深度、所述需要保护层段上界面的深度、以及所述需要保护层段下界面的深度,确定阻溶剂与卤水界面的最大深度和阻溶剂与卤水界面的最小深度;c、根据分布式光纤测温系统实时监测所述腔体的垂向温度,实时监控阻溶剂与卤水界面的深度在所述阻溶剂与卤水界面的最大深度和所述阻溶剂与卤水界面的最小深度之间,对所述需要改造层段进行溶蚀。
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