[发明专利]一种钛蚀刻液有效
| 申请号： | 201711439632.8 | 申请日： | 2017-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN109972137B | 公开（公告）日： | 2023-10-27 |
| 发明（设计）人： | 孙广胜;刘兵 | 申请（专利权）人： | 安集微电子科技（上海）股份有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/38 | 分类号： | C23F1/38 |
| 代理公司： | 北京大成律师事务所 11352 | 代理人： | 李佳铭;沈汶波 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新区华东路*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提出一种钛蚀刻液，包括碱，磷酸三钾，C4‑C6多元醇，带有颜料吸附基团的星型共聚物，乙二胺四甲叉磷酸，双氧水以及水。该蚀刻液在有效去除晶圆上钛的同时，对于基材如金属铜、铝、钨、金等低腐蚀，使用寿命长，在半导体晶片蚀刻等领域具有良好的应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 蚀刻 | ||
【主权项】：
1.一种钛蚀刻液，其特征在于，包括，碱，磷酸三钾，C4‑C6多元醇，带有颜料吸附基团的星型共聚物，乙二胺四甲叉磷酸，双氧水以及水。
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