[实用新型]一种地坪结构有效

专利信息
申请号: 201720777163.X 申请日: 2017-06-30
公开(公告)号: CN206987280U 公开(公告)日: 2018-02-09
发明(设计)人: 赵旭;李曼;陈志君;潘溢滔;王敬峰 申请(专利权)人: 上海建工七建集团有限公司
主分类号: E04F15/00 分类号: E04F15/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 200120 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 实用新型提供了一种地坪结构,其包括设置于地下室底板上的地坪,所述地坪上设有排水明沟,其还包括设置于地坪内的排水暗沟结构,排水暗沟结构位于所述地坪的下部,排水暗沟结构包括设置于底板上的一对相平行的砖墙,砖墙包括若干呈一字型排列的砖块,相邻砖块之间留有一定距离,一对相平行的砖墙之形成暗沟,所述暗沟与所述排水明沟垂直连通,所述一对相平行的砖墙以及暗沟之上覆有一预制板。通过设置排水暗沟结构,排水暗沟结构中的暗沟与所述排水明沟垂直连通,底板表面的水可以通过相邻砖块之间的空隙进入暗沟,再由暗沟流入排水明沟进行排放,有效减少了地坪上渗水现象,无需使用常规压密注浆的方式进行堵漏,节省了大量的堵漏费用。
搜索关键词: 一种 地坪 结构
【主权项】:
一种地坪结构,包括设置于地下室底板上的地坪,所述地坪上设有排水明沟,其特征在于,还包括设置于地坪内的排水暗沟结构,所述排水暗沟结构位于所述地坪的下部,所述排水暗沟结构包括设置于底板上的一对相平行的砖墙,所述砖墙包括若干呈一字型排列的砖块,相邻砖块之间留有一定距离,所述一对相平行的砖墙之形成暗沟,所述暗沟与所述排水明沟垂直连通,所述一对相平行的砖墙以及暗沟之上覆有一预制板。
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