[发明专利]辐射疗法中的使用切片的轨迹优化有效

专利信息
申请号: 201780036636.3 申请日: 2017-06-13
公开(公告)号: CN109310880B 公开(公告)日: 2021-09-10
发明(设计)人: K·布什;M·哈德塞尔;C·洛克;邢磊 申请(专利权)人: 小利兰·斯坦福大学托管委员会
主分类号: A61N5/10 分类号: A61N5/10;A61N5/00
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 张欣;钱慰民
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 辐射疗法治疗方法包括提供患者模型、剂量测定约束、递送运动约束、和辐射递送设备的递送坐标空间,其中将递送坐标空间表示为具有通过边缘连接的顶点的网格,其中顶点与辐射递送设备的射束方向视图(BEV)的方向相对应,其中每个BEV具有由射束准直产生的对应区元素。通过患者模型、剂量测定约束、递送坐标空间和现有射束轨迹构造BEV区域连接歧管,其中BEV区域连接歧管中的每一个表示连续的2D靶区域之间的连接,其中2D靶区域中的每一个被限定在递送坐标空间的顶点中的每个顶点处。基于BEV区域连接歧管中的区域连通性信息、剂量测定约束、递送运动约束和现有射束轨迹来选择射束轨迹。使用辐射递送设备根据射束轨迹来递送辐射。
搜索关键词: 辐射 疗法 中的 使用 切片 轨迹 优化
【主权项】:
1.一种使用辐射递送设备用于辐射疗法治疗的方法,所述方法包括:提供患者模型、剂量测定约束、递送运动约束、和所述辐射递送设备的递送坐标空间,其中将所述递送坐标空间表示为具有通过边缘连接的顶点的网格,其中所述顶点与所述辐射递送设备的射束方向视图(BEV)的方向相对应,其中每个BEV具有由射束准直产生的对应的区元素;通过所述患者模型、所述剂量测定约束、所述递送坐标空间、以及现有射束轨迹来构造BEV区域连接歧管,其中所述BEV区域连接歧管中的每一个表示连续的2D靶区域之间的连接,其中所述2D靶区域中的每一个被限定在所述递送坐标空间中的所述顶点的每一个顶点处;基于所述BEV区域连接歧管中的区域连通性信息、所述剂量测定约束、所述递送运动约束、和所述现有射束轨迹,来选择射束轨迹;以及使用所述辐射递送设备根据所述射束轨迹来递送辐射。
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