[发明专利]射流开关设备在审

专利信息
申请号: 201780088849.0 申请日: 2017-12-05
公开(公告)号: CN110446997A 公开(公告)日: 2019-11-12
发明(设计)人: 肖恩·杰森·凯勒;大卫·R·佩雷克;特里斯坦·托马斯·特鲁纳;尼古拉斯·罗伊·科森;雷蒙德·金;杰克·林赛;里卡多·德萨佛;约瑟夫·明·田 申请(专利权)人: 脸谱科技有限责任公司
主分类号: G06F3/01 分类号: G06F3/01;F15B13/02
代理公司: 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 代理人: 张瑞;杨明钊
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 射流设备控制在通道中从源到排放口的流体流动。在一些实施例中,射流设备包括通道和闸门。通道被配置成将流体从源传送到排放口。闸门根据在闸门内的流体压力来控制在通道中的流体流动的流率。具体地,闸门被配置成根据闸门的低压状态来引起在通道中的流体的第一流率,并且根据闸门的高压状态来引起在通道中的流体的第二流率。在某些实施例中,第一流率大于第二流率。在替代实施例中,第二流率大于第一流率。
搜索关键词: 闸门 流率 流体 流体流动 射流设备 排放口 低压状态 高压状态 流体压力 射流开关 配置 替代
【主权项】:
1.一种射流设备,包括:通道,其被配置为将流体从源传送到排放口,其中,所述源是用于流体进入所述通道的输入端,以及所述排放口是用于流体离开所述通道的输出端;以及闸门,其根据在所述闸门内的流体压力来控制在所述源和所述排放口之间的流体流动的流率,所述闸门被配置成根据所述闸门的低压状态来引起在所述通道中的流体的第一流率,并且根据所述闸门的高压状态来引起在所述通道中的流体的第二流率,其中,所述第一流率大于所述第二流率。
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