[发明专利]一种超分子共插层结构抗光老化材料的制备方法

摘要

本发明提供了一种超分子共插层结构抗光老化材料的制备方法，是将紫外吸收剂与受阻胺光稳定剂共插层到LDH得到该光老化材料。其制备方法是，先采用共沉淀法制备紫外吸收剂插层LDH，再利用受阻胺光稳定剂与紫外吸收剂碱性的差异，借助强碱能够制备弱碱的原理，将受阻胺光稳定剂与紫外吸收剂插层LDH反应，强碱性的受阻胺光稳定剂将替换LDH层间弱碱性的紫外吸收剂，得到受阻胺光稳定剂与紫外吸收剂共插层LDH。该方法减少了价格昂贵的受阻胺光稳定剂的用量，极大地提高了受阻胺光稳定剂的利用率，降低了受阻胺光稳定剂与紫外吸收剂共插层LDH的制备成本，且具有制备方法操作简单、反应条件温和、层间受阻胺光稳定剂和紫外吸收剂的摩尔比值易于调控、便于工业化生产的优点。

主权项

1.一种超分子插层结构抗光老化材料的制备方法，具体步骤如下：A.称取M2+、M3+的硝酸盐或氯化盐溶于除二氧化碳的去离子水中配制成混合盐溶液，其中M2+与M3+的摩尔比为2‑4，M3+的摩尔浓度为0.05‑0.8mol/L；根据上述混合盐溶液M2+、M3+的量配制摩尔浓度为0.05‑1mol/L的碱溶液，其中碱的摩尔量为M2+与M3+摩尔量之和的2‑2.4倍，再加入紫外吸收剂到碱溶液中形成混合溶液；其中紫外吸收剂与M3+摩尔量的比值为1‑3；在氮气保护和搅拌下，将该混合溶液和上述混合盐溶液全部混合，反应生成沉淀；然后在60‑110℃下晶化1‑8小时，过滤，离心洗涤沉淀物3‑6遍，得到紫外吸收剂插层LDH湿滤饼；所述的M2+为Mg2+、Zn2+、Ni2+、Ca2+、Fe2+、Cu2+中的任意一种或两种，较好的是Mg2+、Zn2+中的一种，M3+为Al3+、Co3+、Ti3+、Fe3+、Cr3+中的一种或两种，较好的是Al3+；所述的碱为NaOH、KOH或氨水；所述的紫外吸收剂为对氨基苯甲酸钠、对‑甲氧基肉桂酸钠、水杨酸钠、2‑羟基‑4‑甲氧基二苯甲酮‑5‑磺酸钠、香豆素‑3‑羧酸钠、肉桂酸钠、苯并三唑‑4‑羟基‑苯磺酸钠、2‑苯基苯并咪唑‑5‑磺酸钠中的任意一种；B.将步骤A得到的紫外吸收剂插层LDH湿滤饼用水配制成固含量为10‑100g/L的浆液，再加入受阻胺光稳定剂，其中受阻胺光稳定剂的加入量为浆液中M3+摩尔量的0.3‑1倍，然后在20‑100℃下搅拌反应3‑12小时，冷却、过滤，洗涤滤饼4‑9遍，于60‑100℃干燥12‑24小时即得到超分子插层结构抗光老化材料，表示为HALS/UVAB‑LDH，其中HALS代表受阻胺光稳定剂，UVAB代表紫外吸收剂，受阻胺光稳定剂的利用率大于90％；所述的受阻胺光稳定剂为四甲基哌啶类化合物，其化学式如下式所示：式中R1为H或CH3；R2为O‑R3‑COONa、N‑R3‑COONa、O‑R3‑SO3Na或N‑R3‑SO3Na，其中R3为[CH2]k[C6H4]m[C3N3H4]n，k为0‑8之间的整数，m、n＝0或1。