[发明专利]掩膜板及柔性显示面板在审
| 申请号： | 201810701518.6 | 申请日： | 2018-06-29 |
| 公开（公告）号： | CN109100914A | 公开（公告）日： | 2018-12-28 |
| 发明（设计）人： | 陶庆良;陈彩琴 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/38 | 分类号： | G03F1/38;H01L27/32 |
| 代理公司： | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 | 代理人： | 贾凤涛 |
| 地址： | 430000 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种掩膜板及柔性显示面板，该掩膜板上间隔设置有多个条形部，条形部沿其长度方向上间隔设置有多个通孔，条形部两端的单位面积上通孔所占的面积比例小于条形部中间的单位面积上通孔所占的面积比例。通过使用该掩膜板形成的金属走线在高度不同的第一部分和第二部分上形成有通孔处的金属走线的宽度相当，从而能降低金属走线断线的风险，进而提升显示质量。 | ||
| 搜索关键词： | 条形部 掩膜板 金属走线 柔性显示面板 间隔设置 上通孔 通孔 断线 申请 | ||
【主权项】：
1.一种掩膜板，其特征在于，所述掩膜板上间隔设置有多个条形部，所述条形部沿其长度方向上间隔设置有多个通孔，所述条形部两端的单位面积上所述通孔所占的面积比例小于所述条形部中间的单位面积上所述通孔所占的面积比例。
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- 专利分类
G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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