[发明专利]以化学气相沉积长碳链硅烷化合物作为气密防水之方法有效
申请号: | 201810813216.8 | 申请日: | 2018-07-23 |
公开(公告)号: | CN108546927B | 公开(公告)日: | 2019-12-03 |
发明(设计)人: | 潘赠杰;许家文 | 申请(专利权)人: | 业成科技(成都)有限公司;业成光电(深圳)有限公司;英特盛科技股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/02 | 分类号: | C23C16/02;C23C16/44 |
代理公司: | 51226 成都希盛知识产权代理有限公司 | 代理人: | 杨冬梅;张行知<国际申请>=<国际公布> |
地址: | 611730 四川*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本发明提供一种以化学气相法沉积长碳链硅烷化合物于一面板及框体之间作为气密防水之用的方法,包含步骤:沉积一长碳链硅烷化合物于一框体与一面板之接触边缘,其中该长碳链硅烷化合物之前驱溶液包含长碳链硅烷化合物1v/v%及异丙醇99v/v%。该长碳链硅烷化合物为四乙基正硅酸盐(TEOS)。 | ||
搜索关键词: | 硅烷化合物 长碳链 气密防水 框体 沉积 四乙基正硅酸盐 化学气相沉积 化学气相法 接触边缘 异丙醇 | ||
【主权项】:
1.一种以化学气相沉积长碳链硅烷化合物作为气密防水之方法,其特征在于,包含:压合一框体与一面板以形成一组件;以一光罩覆盖该面板之部分表面,并露出一欲沉积表面;以臭氧电浆将该欲沉积表面进行改质;/n置该组件于一真空反应腔,将该真空反应腔升温至一预定温度,并导入一长碳链硅烷化合物溶液之气体,其中该预定温度为30-70℃;及静置沉积一预定时间形成一长碳链硅烷化合物沉积层于该欲沉积处,其中该预定时间为90-180分钟,/n其中该长碳链硅烷化合物溶液包含长碳链硅烷化合物0.5-1.5v/v%及异丙醇98.5-99.5v/v%。/n
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- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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