[发明专利]掩膜板及其制作方法、阵列基板及其制作方法

摘要

本公开提供一种掩膜板及其制作方法、阵列基板及其制作方法。所述掩膜板的制作方法包括：提供一衬底，该衬底具有相对设置的第一表面和第二表面；在所述第一表面上形成遮光层，所述遮光层包括多个遮光区域，相邻的所述遮光区域之间构成透光区域；在所述第一表面和所述第二表面中任一一个表面上对应于所述透光区域的位置形成凸透镜结构，所述凸透镜结构的折射率大于所述衬底的折射率。本公开形成的折射率大于衬底的凸透镜结构，能够使通过该透光区域的光线发生聚集，减小光的半峰宽，实现布线区线路的细线化制作。

主权项

1.一种掩膜板的制作方法，其特征在于，包括：提供一衬底，所述衬底具有相对设置的第一表面和第二表面；在所述第一表面上形成遮光层，所述遮光层包括多个遮光区域，相邻的所述遮光区域之间构成透光区域；在所述第一表面和所述第二表面中任一一个表面上对应于所述透光区域的位置形成凸透镜结构，所述凸透镜结构的折射率大于所述衬底的折射率。