[发明专利]测量装置、测量方法以及程序在审

专利信息
申请号: 201880016217.8 申请日: 2018-02-19
公开(公告)号: CN110381830A 公开(公告)日: 2019-10-25
发明(设计)人: 平野朝士;东崎智之;樋口刚司 申请(专利权)人: 京瓷株式会社
主分类号: A61B5/1455 分类号: A61B5/1455;A61B5/026;A61B5/0285
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 倪斌
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种测量装置,包括:第一激光源,用于发射第一波长的激光,第二激光源,用于发射与所述第一波长不同的第二波长的激光,光学检测器,用于接收来自被测部位的散射激光,以及控制器,被配置为基于所述光学检测器的以所接收的第一波长的散射激光为依据的输出来计算第一值,基于所述光学检测器的以所接收的第二波长的散射激光为依据的输出来计算第二值,并且基于所述第一值与所述第二值的比值测量血氧饱和度。
搜索关键词: 波长 光学检测器 散射激光 测量装置 激光源 激光 血氧饱和度 比值测量 控制器 输出 发射 测量 配置
【主权项】:
1.一种测量装置,包括:第一激光源,用于发射第一波长的激光;第二激光源,用于发射与所述第一波长不同的第二波长的激光;光学检测器,用于接收来自被测部位的散射激光;和控制器,被配置为基于所述光学检测器的以所接收的第一波长的散射激光为依据的输出来计算第一值,基于所述光学检测器的以所接收的第二波长的散射激光为依据的输出来计算第二值,并且基于所述第一值与所述第二值的比值来测量血氧饱和度。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京瓷株式会社,未经京瓷株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201880016217.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top