[发明专利]X射线产生装置和X射线分析装置有效
| 申请号： | 201910150250.6 | 申请日： | 2019-02-28 |
| 公开（公告）号： | CN110223797B | 公开（公告）日： | 2023-10-24 |
| 发明（设计）人： | 表和彦;刑部刚;小泽哲也;姜立才;鲍里斯·韦尔曼 | 申请（专利权）人： | 株式会社理学 |
| 主分类号： | G21K1/00 | 分类号： | G21K1/00;G21K1/06;G01N23/00 |
| 代理公司： | 北京瑞盟知识产权代理有限公司 11300 | 代理人： | 刘昕;孟祥海 |
| 地址： | 日本国东京都昭*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种X射线产生装置和X射线分析装置，其能够利用简单的结构来实现电子束尺寸小的聚焦X射线电子束。X射线产生装置具备：线状X射线源；多层膜镜；以及并排反射镜，其以2片凹面镜共用接合线的方式彼此接合，所述X射线产生装置的特征在于，多层膜镜的反射面的截面具有抛物线形状，并且该抛物线形状的焦点位于线状X射线源，并排反射镜的2片凹面镜的反射面的截面各自具有抛物线形状，并且该抛物线形状的焦点分别位于多层膜镜的相反侧，在俯视观察下，所述并排反射镜的接合线的延长线贯穿多层膜镜以及线状X射线源。 | ||
| 搜索关键词： | 射线 产生 装置 分析 | ||
【主权项】：
1.一种X射线产生装置，具备：线状X射线源；多层膜镜；以及并排反射镜，其以2片凹面镜共用接合线的方式彼此接合，所述X射线产生装置的特征在于，所述多层膜镜的反射面的截面具有抛物线形状，并且该抛物线形状的焦点位于所述线状X射线源，所述并排反射镜的2片凹面镜的反射面的截面各自具有抛物线形状，并且该抛物线形状的焦点分别位于所述多层膜镜的相反侧。
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