[发明专利]一种具有多层减反射膜镜片的镀膜工艺在审

专利信息
申请号: 201910394770.1 申请日: 2019-05-13
公开(公告)号: CN110184588A 公开(公告)日: 2019-08-30
发明(设计)人: 王斌;林浩 申请(专利权)人: 江苏新唯尊光学眼镜有限公司
主分类号: C23C16/44 分类号: C23C16/44;C23C16/02;G02B1/115
代理公司: 南京源古知识产权代理事务所(普通合伙) 32300 代理人: 马晓辉
地址: 212334 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种具有多层减反射膜镜片的镀膜方法,包括如下步骤:清洁去污:将待镀膜的镜片置于脱脂溶液中,利用超声波的空化作用对镜片进行全面充分的清洗并烘干;刻蚀抛光:利用各向异性刻蚀技术对镜片的透光面进行刻蚀抛光,获取光滑平整的镜面;上胶粘接:在镜片的透光面上均匀喷涂液态光学胶,形成固化粘接层;沉积镀膜:在固化粘接层表面沉积减反射膜层,形成多层减反射膜层;贴合固化:对镜片施加垂直与镜片透光面的贴合力,使得固化粘接层与镜片以及减反射膜层之间均贴合粘接,并冷却固化。本发明设计合理,能够使得减反射膜与镜片之间充分贴合,提升了减反射膜镜片的透光度,大大提高了减反射膜镜片的清晰度。
搜索关键词: 镜片 多层减反射膜 固化粘接层 减反射膜 镀膜 贴合 减反射膜层 刻蚀抛光 透光 粘接 各向异性刻蚀 液态光学胶 表面沉积 镀膜工艺 光滑平整 均匀喷涂 冷却固化 脱脂溶液 镜面 超声波 贴合力 透光度 透光面 沉积 烘干 空化 去污 上胶 固化 清洗 垂直 施加 清洁
【主权项】:
1.一种具有多层减反射膜镜片的镀膜工艺,其特征在于:包括如下步骤:S100、清洁去污:将待镀膜的减反射膜镜片置于脱脂溶液中,利用超声波的空化作用对镜片进行全面充分的清洗,去除镜片表面的油污并烘干;S200、刻蚀抛光:利用各向异性刻蚀技术对减反射膜镜片的透光面进行刻蚀抛光,去除镜片表面的凹坑以及凸出部分,获取光滑平整的镜面;S300、上胶粘接:在减反射膜镜片的透光面上均匀喷涂液态光学胶,形成固化粘接层;S400、沉积镀膜:利用化学气相沉积法在固化粘接层表面单次多道沉积减反射膜层,形成多层减反射膜层;S500、贴合固化:对镀有减反射膜层的镜片施加垂直与镜片透光面的贴合力,使得固化粘接层与镜片以及减反射膜层均贴合粘接,并冷却固化。
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  • 本发明公开了一种清理炉管碎片的耙子,包括特氟龙耙头和不锈钢手柄,所述特氟龙耙头一侧侧壁连接有不锈钢固定块,所述特氟龙耙头和不锈钢固定块上贯通开设有U型缺口,所述不锈钢固定块远离特氟龙耙头一侧垂直连接有不锈钢手柄,且侧槽中移动设置有调节块,所述调节块与配合块固定连接。本发明的耙头使用特氟龙材料,手柄使用不锈钢材料,既可以减少对炉管的损伤,也可以防止耙子本身的损坏,而且能够很好的调节U型缺口的实际使用尺寸的大小,从而更好的应对不同尺寸的炉管内热电偶,并且通过推动杆的提拉伸缩,直接控制调节块进行贴合和分离,使用起来十分方便操作,且调节效果更好。
  • 基板处理装置-201510767208.0
  • 岩崎征英;反田雄太 - 东京毅力科创株式会社
  • 2015-11-11 - 2019-07-30 - C23C16/44
  • 本申请提供一种基板处理装置,包括:载置台,其用于载置基板(W),并以轴线(X)为中心进行旋转;天线,其设于第1区域;以及反应气体供给部,其用于向第1区域供给反应气体。反应气体供给部具有内侧喷射口和外侧喷射口。内侧喷射口在从轴线(X)的方向观察时设置在比天线的区域靠近轴线(X)的位置,并向远离轴线(X)的方向喷射反应气体。外侧喷射口在从轴线(X)的方向观察时设置在比天线的区域远离轴线(X)的位置,并向靠近轴线(X)的方向喷射被与从内侧喷射口喷射的反应气体的流量独立地控制的流量的反应气体。
  • 利用旋转台的基板处理装置-201510087374.6
  • 立花光博;高畠裕二;本间学 - 东京毅力科创株式会社
  • 2015-02-25 - 2019-07-23 - C23C16/44
  • 一种基板处理装置,其一边在真空容器内使载置在旋转台上的圆形的基板公转一边对该基板供给处理气体并进行处理,其中,该基板处理装置包括:凹部,其为了收纳上述基板而形成于上述旋转台的一面侧;加热部,其为了将上述基板加热到600℃以上并进行处理而对上述旋转台进行加热;以及3个支承销,其在上述凹部的底面上分别位于正三角形的顶点,并分别对与基板的中心分开了该基板的半径的2/3的部位进行支承,该支承销是为了以使上述基板自该凹部的底面浮起的状态支承上述基板而设置的。
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