[发明专利]一种新型同轴四反超紧凑型光学系统在审
申请号: | 201910546284.7 | 申请日: | 2019-06-21 |
公开(公告)号: | CN110262024A | 公开(公告)日: | 2019-09-20 |
发明(设计)人: | 刘春雨;杜康;刘帅;解鹏;王天聪 | 申请(专利权)人: | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
主分类号: | G02B17/06 | 分类号: | G02B17/06 |
代理公司: | 长春众邦菁华知识产权代理有限公司 22214 | 代理人: | 李青 |
地址: | 130033 吉*** | 国省代码: | 吉林;22 |
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摘要: | 一种新型同轴四反超紧凑型光学系统属于空间光学成像技术领域,解决了现有同轴反射式系统视场角过小以及加入校正镜组后同轴反射式光学装置重量过重的技术问题。无穷远处目标发光照射到主反射镜,经由主反射镜反射到次反射镜后在第四反射镜中心孔成像,再次反射到第三反射镜,最后反射到第四反射镜后,通过第三反射镜的中心孔,由探测器接收;主反射镜、第三反射镜和第四反射镜为环形反射镜,第三反射镜设置在主反射镜中心孔内,第四反射镜位于次反射镜后方的像面处,次反射镜和第四反射镜位于主反射镜的前方。本发明减少了光学系统重量和体积,简化了光学系统结构。整个光学系统具有优良的杂散光抑制性能,有广泛的应用前景和使用价值。 | ||
搜索关键词: | 反射镜 主反射镜 同轴 次反射镜 光学系统 反射 中心孔 成像技术领域 光学系统结构 整个光学系统 反射镜设置 反射镜中心 反射式光学 反射式系统 环形反射镜 杂散光抑制 空间光学 校正镜组 视场角 探测器 像面 成像 发光 照射 应用 | ||
【主权项】:
1.一种新型同轴四反超紧凑型光学系统,其特征在于,该光学系统包括:主反射镜、次反射镜、第三反射镜和第四反射镜;所述主反射镜、次反射镜、第三反射镜和第四反射镜曲率中心同轴设置;无穷远处目标发光照射到主反射镜,经由主反射镜反射到次反射镜后在第四反射镜中心孔成像,再次反射到第三反射镜,最后反射到第四反射镜后,通过第三反射镜的中心孔,由探测器接收;所述主反射镜、第三反射镜和第四反射镜为环形反射镜,所述第三反射镜设置在主反射镜中心孔内,第四反射镜位于次反射镜后方的像面处,次反射镜和第四反射镜位于主反射镜的前方,所述主反射镜、次反射镜、第三反射镜和第四反射镜具有旋转对称性。
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