[发明专利]一种制备三维金属微纳结构的方法在审
| 申请号： | 201910583055.2 | 申请日： | 2019-07-01 |
| 公开（公告）号： | CN110272017A | 公开（公告）日： | 2019-09-24 |
| 发明（设计）人： | 不公告发明人 | 申请（专利权）人： | 中山科立特光电科技有限公司 |
| 主分类号： | B81C1/00 | 分类号： | B81C1/00;G03F7/00;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 528458 广东省中*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及微纳结构制备领域，具体涉及一种制备三维金属微纳结构的方法，主要制备步骤包括涂敷光刻胶、电子束曝光、显影定影、蒸镀金属材料和剥离光刻胶。制备过程中只需要曝光一次，蒸镀一次就可以制备出双层金属微纳结构，并且该结构的参数可以通过电子束的剂量进行调节。该制备方法操作简便，避免了制备多层结构需要套刻的过程。 | ||
| 搜索关键词： | 制备 微纳结构 光刻胶 蒸镀 三维 电子束 金属 电子束曝光 多层结构 金属材料 双层金属 显影定影 制备过程 套刻 涂敷 剥离 曝光 | ||
【主权项】：
1.一种制备三维金属微纳结构的方法，其特征在于，包括以下步骤：准备玻璃基底：准备玻璃基底并清洗吹干；涂覆光刻胶：用甩胶机在所述玻璃基底的表面甩两层正性光刻胶；电子束曝光结构图形：用图形发生器设计方形周期阵列结构；用电子束对设定区域曝光，所用电子束剂量为第一剂量；刻蚀；对两层正性光刻胶分别进行刻蚀，所需电子束剂量分别为第二剂量和第三剂量；显影定影；蒸镀金属：采用电子束真空蒸发镀膜仪蒸镀金属材料,形成金属材料层；除胶：将蒸镀完金属的玻璃基底放入丙酮溶液中除胶。
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