[实用新型]一种立式连续PE增强卷对卷石墨烯薄膜生长设备有效
| 申请号： | 201920206620.9 | 申请日： | 2019-02-18 |
| 公开（公告）号： | CN209873092U | 公开（公告）日： | 2019-12-31 |
| 发明（设计）人： | 孔令杰;李晓丽;吴克松;李明;陶辉 | 申请（专利权）人： | 合肥百思新材料研究院有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/26 | 分类号： | C23C16/26;C23C16/505;C23C16/54 |
| 代理公司： | 11390 北京和信华成知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人： | 胡剑辉 |
| 地址： | 238000 安徽省合肥市巢*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本实用新型公开一种立式连续PE增强卷对卷石墨烯薄膜生长设备，包括设备框架，所述设备框架的前端外表面从上往下依次安装有压力表、触摸控制屏幕与射频控制仪，所述设备框架的一侧安装有石英管，所述石英管的顶部安装有放卷舱，所述放卷舱的上端中间位置开设有二号进气口，所述放卷舱内部中间位置安装有放卷卷轴，所述放卷舱的顶部开设有二号进气口；本实用新型一种立式连续PE增强卷对卷石墨烯薄膜生长设备通过卷轴联动，PE激发等离子体连续、快速制备大面积、高质量石墨烯，从而大大提高生产速率，利用自重来保证铜箔呈竖直拉紧状态，增大气体与铜箔的接触面积，铜箔双面均可以形核扩散生长石墨烯膜，能够免收反应气体的干扰，有效的提升成膜质量及效率。 | ||
| 搜索关键词： | 放卷 设备框架 铜箔 进气口 本实用新型 石墨烯薄膜 生长设备 卷轴 卷对卷 石英管 压力表 等离子体 内部中间位置 前端外表面 触摸控制 顶部安装 反应气体 快速制备 射频控制 石墨烯膜 紧状态 石墨烯 上端 成膜 联动 直拉 屏幕 生长 激发 保证 生产 | ||
【主权项】：
1.一种立式连续PE增强卷对卷石墨烯薄膜生长设备，其特征在于，包括设备框架(18)，所述设备框架(18)的前端外表面从上往下依次安装有压力表(6)、触摸控制屏幕(5)与射频控制仪(1)，所述设备框架(18)的一侧安装有石英管(15)，所述石英管(15)的顶部安装有放卷舱(8)，所述放卷舱(8)的上端中间位置开设有二号进气口(7)，所述放卷舱(8)内部中间位置安装有放卷卷轴(9)，所述放卷舱(8)的顶部开设有二号进气口(7)，所述石英管(15)的底部安装有收卷舱(16)，所述收卷舱(16)内部中间位置安装有收卷卷轴(17)，所述放卷卷轴(9)与收卷卷轴(17)之间连接有基材(10)，所述石英管(15)的中间位置从上往下依次设置有上加热区(12)、中间加热区(13)与下加热区(14)，所述石英管(15)靠近下加热区(14)底端位置开设有排气口(2)，所述石英管(15)靠近上加热区(12)上端一侧位置安装有线圈(3)，所述线圈(3)的左侧开设有一号进气口(4)；/n法兰(11)包括上法兰与下法兰，上法兰与下法兰分别位于石英管(15)的两端。/n
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
