[实用新型]一种双向对称TVS二极管有效
申请号: | 201920420317.9 | 申请日: | 2019-03-29 |
公开(公告)号: | CN209487517U | 公开(公告)日: | 2019-10-11 |
发明(设计)人: | 周伟伟;欧阳炜霞 | 申请(专利权)人: | 焕珏(上海)集成电路有限公司 |
主分类号: | H01L29/861 | 分类号: | H01L29/861;H01L29/06 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 201210 上海市浦东新区中国(上海)自由贸*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种双向对称TVS二极管,包括:P型衬底;N型外延层,形成于所述P型衬底上;P+掺杂区,形成于所述N型外延层表面;P+隔离区,穿过所述N型外延层,所述P+隔离区的底部与所述P型衬底连接;氧化层,形成于所述N型外延层之上,所述P+隔离区的表面通过所述氧化层与所述P+掺杂区连接;金属孔,形成于所述P+隔离区及所述P+掺杂区之上、所述氧化层之间;钝化层,形成于所述金属层之上;以及背面金属层,形成于所述P型衬底的背面。本实用新型结构设计合理,集成度高,尺寸小,大大节约芯片面积。 | ||
搜索关键词: | 隔离区 衬底 掺杂区 氧化层 本实用新型 双向对称 背面金属层 钝化层 集成度 金属层 金属孔 背面 芯片 穿过 节约 | ||
【主权项】:
1.一种双向对称TVS二极管,其特征在于,包括:P型衬底;N型外延层,形成于所述P型衬底上;P+掺杂区,形成于所述N型外延层表面;P+隔离区,穿过所述N型外延层,所述P+隔离区的底部与所述P型衬底连接;氧化层,形成于所述N型外延层之上,所述P+隔离区的表面通过所述氧化层与所述P+掺杂区连接;金属层,形成于所述P+隔离区及所述P+掺杂区之上、所述氧化层之间;钝化层,形成于所述金属层之上;以及背面金属层,形成于所述P型衬底的背面。
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