[发明专利]一种生产低位错密度铸造单晶锭或多晶硅锭时的籽晶铺设方法有效

专利信息
申请号: 202010217070.8 申请日: 2020-03-25
公开(公告)号: CN111441083B 公开(公告)日: 2021-08-06
发明(设计)人: 周耐根;刘世龙;刘淑慧 申请(专利权)人: 南昌大学
主分类号: C30B13/34 分类号: C30B13/34;C30B29/06;B28D5/00;C30B13/14
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 330000 江西省*** 国省代码: 江西;36
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摘要: 本发明专利公开了一种生产低位错密度铸造单晶锭或多晶硅锭时的籽晶铺设方法,包括以下步骤:S1,直拉单晶圆棒去除边皮后得到无圆角的单晶方棒;S2,将所述单晶方棒切割成大籽晶块;S3,将所述大籽晶块再次切割成小籽晶块或籽晶条;S4,将所述小籽晶块或者籽晶条铺设在坩埚底部,形成完整的籽晶层;S5,在所述籽晶层上放置原生多晶硅料和头尾边等循环料;S6,将所述装满多晶硅料的坩埚放入铸锭炉中,采用半融工艺得到铸造单晶硅锭或多晶硅锭;S7,将所述硅锭进行开方,开方后得到小方锭;S8,将所述小方锭进行切片后得到铸造单晶硅片或多晶硅片;铺设时高籽晶和矮籽晶交替搭配,使高籽晶和矮籽晶相接触的侧面完美融合,减少了位错出现的概率。
搜索关键词: 一种 生产 低位 密度 铸造 单晶锭 多晶 硅锭时 籽晶 铺设 方法
【主权项】:
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