[实用新型]一种晶体抛光盘有效
| 申请号： | 202023003323.6 | 申请日： | 2020-12-14 |
| 公开（公告）号： | CN214351810U | 公开（公告）日： | 2021-10-08 |
| 发明（设计）人： | 何淑英 | 申请（专利权）人： | 何淑英 |
| 主分类号： | B24D13/18 | 分类号： | B24D13/18;B24D13/14 |
| 代理公司： | 厦门仕诚联合知识产权代理事务所(普通合伙) 35227 | 代理人： | 邱冬新 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市龙华*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 一种晶体抛光盘，包括上盖以及下盖，所述上盖底端安装下盖，所述上盖底端均匀分布连接杆，所述下盖顶端均匀分布连接槽，所述连接杆与连接槽对应且插接配合，所述上盖底端与下盖顶端设置三组环形冷却水道，所述上盖顶端下盖顶端设置通孔，所述通孔左右两端设置进水孔，所述进水孔底端设置直线冷却水道，直线冷却水道另一端穿过环形冷却水道与外部连接。所述直线冷却水道两侧与环形冷却水道连通，该装置通过置物槽和承重块的配合，使得该装置加重抛光盘的重量增加其摩擦力，更好地配置该抛光盘的重量，提高了该装置的利用效率，降低了成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 晶体 抛光 | ||
【主权项】：
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- 本实用新型涉及硅片研磨机或抛光机的结构，尤其涉及硅片研磨机或抛光机下抛光盘的结构。一种抛光机的下抛光盘，包括有下盘工作盘(7)，其主要特点在于还包括有在下盘工作盘(7)的下方设有下盘基盘(9)，下盘基盘(9)与下盘工作盘(7)之间形成冷却腔(3)，在下盘基盘(9)上设有进水口(8)和出水口(5)，分别与冷却腔(3)连通。本实用新型的优点是特殊的水冷盘结构避免了冷却水走捷径，只有在冷却水充满腔体后才能从出水口流出，确保了冷却水能对抛盘进行充分冷却，及时带走因加工而产生的热量，对抛盘起到了强制冷却的作用，较传统的被动式冷却更可靠。结合精密的测温系统及冷却水流量调节系统，实现了抛盘温度的精密控制。
- 抛光机的上抛光盘-201020515304.9
- 金万斌;李娟;梁春 - 兰州瑞德实业集团有限公司
- 2010-08-30 - 2011-05-11 - B24D13/18
- 本实用新型涉及硅片研磨机或抛光机的结构，尤其涉及硅片研磨机或抛光机上抛光盘的结构。一种抛光机的上抛光盘，包括有上盘工作盘(7)，其主要特点在于还包括有在上盘工作盘(7)的上方设有上盘水冷盘(5)，上盘工作盘(7)与上盘水冷盘(5)之间形成空腔(2)，在上盘水冷盘(5)上设有进水口(3)和出水口(6)，分别与空腔(2)连通。本实用新型的优点是：特殊的水冷盘结构由几个独立的扇形区域腔构成，每个扇形区域腔有各自的进出水口，水路设计为迷宫式，避免了冷却水走捷径，只有在冷却水充满腔体后才能从出水口流出，确保了冷却水能对抛盘进行充分冷却，及时带走因加工而产生的热量，对抛盘起到了强制冷却的作用，较传统的被动式冷却更可靠。
- 一种砂盘-200920041546.6
- 黄少东 - 黄少东
- 2009-03-27 - 2010-01-27 - B24D13/18
- 本实用新型公开了一种砂盘，包括拱形基体，基体中心设有安装固定孔，安装固定孔外侧设置弹性槽，基体上设有排气孔，基体表面复合有增强网布层，增强网布层外设有磨料层。本实用新型结构合理，粘结强度高、可有效防止被打磨工件烧伤，使用寿命长。
- 专利分类
