[发明专利]基于束缚电荷增强2DEG的氧化镓异质结结构和异质结器件有效

专利信息
申请号: 202110414348.5 申请日: 2021-04-16
公开(公告)号: CN113224142B 公开(公告)日: 2023-03-14
发明(设计)人: 马晓华;陆小力;郑雪峰;王志成;何云龙;郝跃 申请(专利权)人: 西安电子科技大学
主分类号: H01L29/267 分类号: H01L29/267;H01L29/778
代理公司: 西安嘉思特知识产权代理事务所(普通合伙) 61230 代理人: 刘长春
地址: 710000 陕*** 国省代码: 陕西;61
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种基于束缚电荷增强2DEG的氧化镓异质结结构和异质结器件,该异质结结构包括:自下而上依次层叠设置的Ga2O3层、第一半导体层和第二半导体层,其中,第一半导体层的禁带宽度大于Ga2O3层的禁带宽度;第二半导体层的介电常数小于第一半导体层的介电常数。本发明的基于束缚电荷增强2DEG的氧化镓异质结结构,将低介电常数的半导体材料与AlN/Ga2O3异质结结构结合,通过在低介电常数的半导体材料上施加正向电场来产生束缚电荷和AlN的极化电荷联合,从而诱导AlN/Ga2O3异质结界面的二维电子气浓度增大。
搜索关键词: 基于 束缚 电荷 增强 deg 氧化 镓异质结 结构 异质结 器件
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西安电子科技大学,未经西安电子科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202110414348.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top