[实用新型]一种基于双波长光子筛和双光源的光刻对准系统有效
申请号: | 202120399493.6 | 申请日: | 2021-02-23 |
公开(公告)号: | CN214042006U | 公开(公告)日: | 2021-08-24 |
发明(设计)人: | 王画然;蒋文波;刘雪梅;卜云;宋潇潇;付钱华;郭奕 | 申请(专利权)人: | 西华大学 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G03F9/00 |
代理公司: | 成都正华专利代理事务所(普通合伙) 51229 | 代理人: | 李蕊 |
地址: | 610039 四川*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本实用新型涉及光刻技术领域,具体涉及一种基于双波长光子筛和双光源的光刻对准系统,其包括依次共轴设置第二反射镜、第三分光镜、第一分光镜、第二分光镜、光子筛、掩膜和硅片;第一分光镜一侧依次共轴设有对准光源和第一准直透镜,且第一准直透镜邻近第一分光镜;第二分光镜一侧依次共轴设有曝光光源和第二准直透镜,且第二准直透镜邻近第二分光镜;第三分光镜相对的两侧分别设有第一反射镜和CCD相机。采用分区域结构设计的双波长光子筛替代传统的投影物镜,解决了为了透过波长不同的对准光源和曝光光源,物镜镜片需镀双峰增透膜而导致系统结构复杂、透射率低的问题,既保证了双光源同时成像,又具有优良的聚焦成像性能,且降低了系统复杂度。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 波长 光子 光源 光刻 对准 系统 | ||
【主权项】:
暂无信息
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