[发明专利]一种高稳定自阻隔量子点光学膜及其制备方法和应用有效

专利信息
申请号: 202210114263.X 申请日: 2022-01-30
公开(公告)号: CN114474940B 公开(公告)日: 2023-08-25
发明(设计)人: 房昊;周钰明;卜小海;盛晓莉;张贤;王芬;刘勇 申请(专利权)人: 东南大学;南京贝迪新材料科技股份有限公司;南京工程学院
主分类号: B32B27/36 分类号: B32B27/36;B32B27/08;B32B27/30;C09K11/02;C09K11/88;B82Y20/00;B82Y30/00;B82Y40/00;G02F1/13357;G09F9/33
代理公司: 南京九致知识产权代理事务所(普通合伙) 32307 代理人: 杨橘
地址: 210000 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明提供一种高稳定自阻隔量子点光学膜及其制备方法和应用,涉及量子点光学膜制备领域;其中,光学膜由两层PET基膜和夹设在两基膜间的量子点掺杂光学树脂层构成,量子点掺杂光学树脂层是由1wt%‑10wt%自阻隔量子点、60wt%‑80wt%丙烯酸类光学树脂、10wt%‑20wt%扩散粒子和1wt%‑10wt%光引发剂组成,自阻隔量子点为疏水性磷脂聚合物包覆的CdSe/Ni@CdZnSeS/Co双金属掺杂量子点;本发明先制备自阻隔量子点、随后制备量子点掺杂光学树脂、最后制备高稳定自阻隔量子点光学膜,制得的光学膜可应用于Micro‑LED、Mini‑LED、OLED、LCD或量子点显示中。本发明提供的量子点掺杂光学树脂层有极高的水氧阻隔性能,由其制备的量子点光学膜具备优异的光学性能。
搜索关键词: 一种 稳定 阻隔 量子 光学 及其 制备 方法 应用
【主权项】:
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