[发明专利]一种氮化铝蚀刻液及其应用在审
| 申请号： | 202210758826.9 | 申请日： | 2022-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN115011348A | 公开（公告）日： | 2022-09-06 |
| 发明（设计）人： | 冯帆;贺兆波;叶瑞;姜飞;张庭;班昌胜;冯凯;王书萍;杜程 | 申请（专利权）人： | 湖北兴福电子材料有限公司 |
| 主分类号： | C09K13/02 | 分类号： | C09K13/02;H01L21/311 |
| 代理公司： | 宜昌市三峡专利事务所 42103 | 代理人： | 成钢 |
| 地址： | 443007 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种氮化铝蚀刻液及其应用，该蚀刻液按质量百分数计，包括碱性物质：10~20%、添加剂0.1‑0.8%；表面活性剂0.01‑0.05%，其余为水。其中水和碱性物质提供了蚀刻液必要的基础碱性环境，添加剂提供了蚀刻必须的氧化性能与促进氮化铝水解的功能，表面活性剂优化蚀刻条件，在相同的蚀刻时间下，可以有效蚀刻掉氮化铝。该蚀刻液生产工艺简单，原材料成本低且性能稳定，有利于工业化大规模生产，同时可以加快蚀刻速率，提高半导体成品的生产效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 氮化 蚀刻 及其 应用 | ||
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- 2019-10-24 - 2021-06-04 - C09K13/02
- 本发明的树脂组合物的蚀刻液包含碱不溶性树脂和50质量％～80质量％的无机填充剂，该蚀刻液含有作为第1成分的15质量％～45质量％的碱金属氢氧化物和作为第2成分的1质量％～40质量％的乙醇胺化合物，且含有作为第3成分的3质量％～60质量％的多元醇化合物、2质量％～20质量％的多元羧酸或2质量％～20质量％的羟基酸。
- 蚀刻液组成物及使用该蚀刻液组成物的蚀刻方法-201810568337.0
- 吕志鹏;陈韵慈;廖本男;李懿 - 关东鑫林科技股份有限公司
- 2018-06-05 - 2021-06-04 - C09K13/02
- 一种蚀刻液组成物，包括：四级铵盐碱性化合物；胺类化合物；以及水性介质，其中，以该蚀刻液组成物的总重计，该四级铵盐碱性化合物的含量为1.0至30％，该胺类化合物之含量为10至60％，该蚀刻液组成物对于硅的不同结晶方向具有接近的蚀刻速率，能降低不同结晶面的硅的蚀刻速率差。
- 一种腐蚀液及其制备方法和应用-201911120903.2
- 张临安;邓伟伟 - 苏州阿特斯阳光电力科技有限公司;阿特斯阳光电力集团股份有限公司
- 2019-11-15 - 2021-05-18 - C09K13/02
- 本发明提供了一种腐蚀液及其制备方法和应用；所述腐蚀液包括质量百分比为0.5‑4.5％的碱、0.01‑0.225％的山梨酸钾、0.01‑0.225％的乙酸钠、0.005‑0.15％的十二烷基苯硫酸钠、0.055‑0.46％的消泡剂、0.055‑0.78％的表面活性剂、0.035‑0.42％的分散剂、0.47‑4.42％的功能性助剂以及余量的水；该腐蚀液用于基片层的制备时，能够控制基片的背面形成较均匀的金字塔型绒面，并能保证基片正面的发射极层不被破坏，且能够控制金字塔型的尺寸，使其保持较低的金字塔型的高宽比，从而降低背面绒面的比表面积，有利于背面钝化，降低复合；提高N型接触电池的太阳能转化效率。
- 一种太阳能电池制备碱抛光用添加剂及抛光工艺-202010812056.2
- 杨二存;赵小平;刘海金;顾生刚;江中强 - 天津爱旭太阳能科技有限公司
- 2020-08-13 - 2020-12-22 - C09K13/02
- 本发明公开了一种太阳能电池制备碱抛光用添加剂及抛光工艺，添加剂由以下质量百分比的原料组成：无机盐0.1％‑5％、缓蚀阻垢剂0.1％‑10％、乳化增稠剂0.1％‑2.5％、PH调节剂0.1％‑3％、余量为去离子水；缓蚀阻垢剂可降低碱对二氧化硅的腐蚀速率，保护电池正面的PN结在刻蚀过程中不被破坏，还促进碱对硅片的抛光效果，避免使用重污染的HNO3，绿色环保，不仅降低了HF的使用量，而且提升了电池转换效率，降低废水废气处理成本和电池生产的材料成本。利用无机盐的高粘度来增大碱抛光使用的氢氧化钠/氢氧化钾的浓度，以控制反应速度，避免腐蚀过度，降低碎片率，且无机盐对金属离子的螯合作用可对硅片表面进行清洁。
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